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尼康株式會社的工業(yè)計量業(yè)務部門近期發(fā)布了自動晶圓測量系統NEXIV VMZ-NWL 200，以解決半導體后端工藝中晶圓計量的挑戰(zhàn)，傳統上手動執(zhí)行的工作多于前端過程控制。因此，NEXIV VMZ-NWL 200 的主要目標市場是以后端半導體制造工藝為中心的測量。

NEXIV VMZ-NWL 200 緩解了手動測量熟練技術人員的短缺。半導體行業(yè)沿著小型化的道路發(fā)展，這提高了測量所需的技能水平，并減少了可用的工程師數量。另一方面，半導體市場繼續(xù)擴大，因此越來越多的計量機會被提供給越來越少的人。因此，使用傳統光學顯微鏡的手動測量已達到極限。

NEXIV VMZ-NWL 200 是一種根據測量程序自動測量載體中保存的 6 英寸或 8 英寸晶圓的系統。NEXIV的可靠性和使用NWL的穩(wěn)定晶圓加載確保了測量的高重復性。該系統允許使用專用軟件直觀地選擇要測量的芯片。因此，任何人都可以以高度的可靠性獲得所需的芯片測量結果。此外，還可以跟蹤測量的時間和程序，有助于提高可追溯性。

該系統在設計時考慮到了安全性，并提供了保護蓋，以防止因操作員錯誤而造成的損壞。操作符合 SEMI 國際標準 S2、S8 和 F47。

關于尼康計量
尼康基于公司 100 多年歷史中積累的先進光電子和精密技術，在全球范圍內提供各種產品、服務和解決方案。該集團繼續(xù)創(chuàng)造新的價值，以各種形式為提高生活質量和制造業(yè)做出貢獻。尼康的工業(yè)計量業(yè)務部 （IMBU） 提供集成、優(yōu)化的超高精度解決方案，這些解決方案不僅具有定制性和成本效益，而且在實施后立即運行良好。在尼康數字制造旗下的最新發(fā)展是IMBU與公司數字解決方案業(yè)務部門（DSBU）之間更緊密的合作，該部門推出了一系列光學增材和減材制造解決方案，用于加工各種亞微米表面光潔度的材料。