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            關(guān)注納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展 天仁微納攜納米壓印光刻設(shè)備亮相納博會
            2024年10月25日 15:13:58 來源:化工儀器網(wǎng) 作者:小王 點擊量:8752

            此次納博會吸引了全球納米科技領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)企業(yè)及眾多行業(yè)內(nèi)的精英匯聚一堂,共襄盛舉。青島天仁微納科技有限責(zé)任公司(以下簡稱:天仁微納)作為參展企業(yè)之一,攜旗下GL300 Cluster 200/300mm全自動納米壓印光刻生產(chǎn)線、GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備、UniPrinter桌面型納米壓印光刻設(shè)備等產(chǎn)品亮相展會。

              【化工儀器網(wǎng) 展會報道】2024年10月23日至25日,第十四屆中國國際納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)博覽會(以下簡稱:納博會)在蘇州國際博覽中心舉辦。大會由峰會、展覽、大賽、對接會等部分組成,重點聚焦納米新材料、微納制造、第三代半導(dǎo)體、納米壓印、納米大健康、能源與清潔技術(shù)、納米生物技術(shù)等產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域,是我國納米技術(shù)應(yīng)用產(chǎn)業(yè)大規(guī)模國際性盛會,同時也是企業(yè)、高校及科研單位進行納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)交流合作的重要平臺。
             
              此次納博會吸引了全球納米科技領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)企業(yè)及眾多行業(yè)內(nèi)的精英匯聚一堂,共襄盛舉。青島天仁微納科技有限責(zé)任公司(以下簡稱:天仁微納)作為參展企業(yè)之一,攜旗下GL300 Cluster 200/300mm全自動納米壓印光刻生產(chǎn)線、GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備、UniPrinter桌面型納米壓印光刻設(shè)備等產(chǎn)品亮相展會。
             

             
              天仁微納成立于2015年,是專業(yè)的微納加工設(shè)備和解決方案提供商。公司自成立以來始終專注于納米加工領(lǐng)域,核心競爭力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。目前天仁微納產(chǎn)品與服務(wù)涵蓋納米壓印相關(guān)的設(shè)備、模具、材料、工藝以及生產(chǎn)咨詢。憑借自身領(lǐng)先的技術(shù)、完善的售后服務(wù)和快速的市場應(yīng)對能力,天仁微納在納米壓印領(lǐng)域取得了顯著的市場地位。
             
              GL300 Cluster 200/300mm全自動納米壓印光刻生產(chǎn)線
             

             
              天仁微納此次推出的GL300 Cluster是功能強大的全自動納米壓印光刻生產(chǎn)線,它集成了從納米壓印晶圓預(yù)處理工藝,直至納米壓印光刻全套工藝步驟。產(chǎn)品標(biāo)配天仁微納CLIV(Contact Litho into Vacuum)壓印技術(shù),可實現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。
             
              設(shè)備采用模塊化設(shè)計,用戶可以根據(jù)工藝需求和生產(chǎn)節(jié)奏自由配置晶圓清洗、涂膠、烘烤、冷卻、Plasma表面處理、AOI檢測、Post Cure以及納米壓印的模塊數(shù)量,達到最優(yōu)的生產(chǎn)效率。此外,GL300 Cluster還支持全自動工作模具復(fù)制、工作模具自動更換、自動預(yù)處理和自動對位、自動壓印、自動脫模,全部工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中進行,以保證壓印結(jié)果質(zhì)量。
             
              GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備
             

             
              GL8 CLIV Gen2是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備,產(chǎn)品同樣標(biāo)配天仁微納CLIV壓印技術(shù),可在200mm以下晶圓面積上實現(xiàn)高精度(結(jié)構(gòu)精度優(yōu)于10納米)、高深寬比(深寬比優(yōu)于10:1)納米結(jié)構(gòu)復(fù)制。
             
              GL8 CLIV Gen2支持自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具,工作模具具有精度高、壽命長等特點,可以顯著降低大面積納米壓印工藝中模具使用成本。CLIV技術(shù)的應(yīng)用保證了納米壓印結(jié)構(gòu)的精度與高深寬比結(jié)構(gòu)的完整填充,同時保證了大面積結(jié)構(gòu)壓印均勻性。
             
              UniPrinter桌面型納米壓印光刻設(shè)備
             

             
              UniPrinter是一種專門為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計,操作簡單、功能強大的臺面型納米壓印光刻設(shè)備。產(chǎn)品可實現(xiàn)4英寸以下晶圓面積上高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印,適合用作紫外納米壓印光刻工藝開發(fā),器件原型快速驗證,納米壓印材料測試等研發(fā)。設(shè)備內(nèi)自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具,自動壓印、自動曝光固化、自動脫模,工藝過程無需人工干預(yù)。同時設(shè)備還沿用了天仁微納量產(chǎn)型納米壓印設(shè)備的工藝與材料體系,在該設(shè)備上開發(fā)的工藝可以無障礙轉(zhuǎn)移到天仁微納量產(chǎn)設(shè)備上進行生產(chǎn)。
             
              納米壓印技術(shù)已經(jīng)發(fā)展了二十余年,隨著技術(shù)的不斷進步和成本的降低,納米壓印技術(shù)逐漸受到市場的關(guān)注,并在越來越多領(lǐng)域得到應(yīng)用。由于納米壓印技術(shù)的加工過程不使用可見光或紫外光加工圖案,而是使用機械手段進行圖案轉(zhuǎn)移,這種方法能達到很高的分辨率,并且模板可以反復(fù)使用,大大降低了加工成本、縮短了加工時間,因此納米壓印技術(shù)被認為是一種有望代替現(xiàn)有光刻技術(shù)的加工手段。
             
              天仁微納作為國內(nèi)較早涉足納米壓印技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)及產(chǎn)品開發(fā)的企業(yè),正用產(chǎn)品引領(lǐng)著納米壓印技術(shù)的國產(chǎn)崛起。展會期間我們看到了眾多客戶來到天仁微納的展位進行交流,其中不乏國際友人,這也足以見的天仁微納的實力。
             
              納米壓印技術(shù)的發(fā)展正需要天仁微納這樣執(zhí)著于技術(shù)的企業(yè)來推動。相信在不久的將來,天仁微納會推出更多精度更高、功能更全面的納米壓印光刻設(shè)備,而這些設(shè)備也將進一步打開光刻技術(shù)的發(fā)展前景,為納米產(chǎn)業(yè)發(fā)展做出新的貢獻。
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