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            2單靶直流磁控濺射儀--VTC-16-SM

            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            產(chǎn)品標(biāo)簽

            直流磁控濺射儀MTI江曉平

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              合肥科晶材料技術(shù)有限公司成立于1997年,是由一群來自麻省理工學(xué)院和加州大學(xué)伯克利分校的材料研究人員創(chuàng)辦的美國MTI公司與中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院合資興辦的高新技術(shù)企業(yè)。主要生產(chǎn)氧化物晶體(A--Z)和材料實(shí)驗(yàn)室成套設(shè)備:包括“混料-壓料-燒料”(混料機(jī)、壓片機(jī)、箱式爐、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀、低速外圓鋸、金剛石線切割機(jī)、自動研磨、拋光機(jī))。公司自主研發(fā)生產(chǎn)上百款不同規(guī)格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產(chǎn)品,其中包括:箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、鍍膜機(jī)、清洗劑及新能源鋰離子電池研發(fā)等相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。現(xiàn)已成為氧化物晶體(A--Z)的主要制造商和材料研究實(shí)驗(yàn)室設(shè)備的*,為科研工作者提供材料研究解決方案。產(chǎn)品設(shè)計*、性能優(yōu)異,質(zhì)量可靠,性價比高,環(huán)保節(jié)能、返修率低,遠(yuǎn)銷到歐洲,美國,日本,德國等許多國家,廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、冶金、醫(yī)學(xué)、新能源材料研發(fā)等領(lǐng)域,受到客戶*好評。
             
              科晶公司秉承"以人為本、技術(shù)為導(dǎo)、誠信為基、積極創(chuàng)新"的經(jīng)營理念,全力打造材料研發(fā)設(shè)備的品牌,竭力為科學(xué)進(jìn)步和社會發(fā)展做出貢獻(xiàn)。
             

            真空管式爐,高溫箱式爐,高速震動球磨機(jī),RTP快速退火爐,高溫高壓爐,涂覆機(jī),電池制備設(shè)備等

            VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀,包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉(zhuǎn)樣品臺,外形小巧,性價比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備,可選配各種金屬靶材和真空泵。

            用直流磁控濺射儀可獲得單相Al

            技術(shù)參數(shù)

            輸入電壓

            AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz

            輸入功率

            < 2000W 

            輸出功率

            • 電壓:1600VDC
            • zui大電流:150mA 

            腔體

            石英腔體:167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height


            濺射頭和樣品臺

            • 2英寸帶水冷磁控濺射頭
            • 一個直徑50mm不銹鋼樣品臺,樣品臺可旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)速率0 - 5 RPM 
            • 配有一手動操作的擋板,包含靶頭支撐架

            • 樣品臺和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)范圍:60-100mm

                   (點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料)

            控制面板

            6" PLC集成觸摸屏控制面板,可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度


            附件(可選)

            • 雙極旋片真空泵VRD-8KF25接口

            • KF25不銹鋼波紋管

            • 10L/min 循環(huán)水冷機(jī)冷卻磁控靶頭  
                

            氣氛

            含一個控制進(jìn)氣的針閥和一個放氣閥


            靶材

            • 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm
            • 適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金屬,可選購

            可選配件

            • 膜厚監(jiān)測儀
            • 分子泵,可獲得高真空, >10E-5 torr
            • 為獲得的薄膜強(qiáng)度,建議鍍膜前用等離子清洗機(jī)對基片進(jìn)行清洗。
            • 500度樣品加熱臺         
                  

             

            體積

                
              ( L 440mm×W 330mm × H 290mm 

            凈重

            20 kg ( not included pump )

            質(zhì)保和證書

            • 一年質(zhì)保,終生維護(hù)
            • CE認(rèn)證

            磁控濺射鍍膜知識

            與客戶分享的磁控濺射鍍膜技術(shù),請點(diǎn)擊文章鏈接Plasma Sputter Coating.  



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