化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>去膠機(jī)> NPC-4000(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))
NPC-4000(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))
- 公司名稱(chēng) 那諾中國(guó)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 生產(chǎn)廠(chǎng)家
- 更新時(shí)間 2023/11/13 11:15:05
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 1848
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ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,晶圓清洗機(jī),PA-MOCVD,飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)
產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥 |
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NPC-4000(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))概述:NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
NPC-4000(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))產(chǎn)品特點(diǎn)
- 緊湊型立式系統(tǒng)
- 手動(dòng)上下載片
- 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
- 兼容100級(jí)超凈間使用
- 淋浴頭、ICP或微波等離子源
- 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)
- RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺(tái)
- 全自動(dòng)或手動(dòng)RF調(diào)諧
- z多可支持8個(gè)MFC帶電拋光的氣體管路
- PC計(jì)算機(jī)控制的氣動(dòng)閥
- 帶密碼保護(hù)的多級(jí)訪(fǎng)問(wèn)控制
- 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
- 機(jī)械泵的壓力可達(dá)到10mTorr
- 250 l/s的渦輪分子泵
- 極限真空為5x10-7Torr
- 完整的安全聯(lián)鎖
NPC-4000(M)應(yīng)用:
- 有機(jī)物以及無(wú)機(jī)物的殘留物去除
- 光刻膠剝離或灰化
- 去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用
- 清洗微電子元件,電路板上的鉆孔或銅線(xiàn)框架
- 提高黏附性,消除鍵合問(wèn)題
- 塑料的表面改型:O2處理以改進(jìn)涂覆性能
- 產(chǎn)生親水或疏水表面
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