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            EL X-01R、EL X-02 C、EL X-02 spec 橢偏儀

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            橢偏儀

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            實密貿(mào)易上海有限公司專精于代理銷售與維護納米科技,分析化學(xué)與電子產(chǎn)業(yè)之生產(chǎn)與測試設(shè)備。 業(yè)務(wù)范圍涵蓋半導(dǎo)體封裝、 PCB 、 SMT 、 LED 、學(xué)校、工業(yè)及醫(yī)療研究機構(gòu)、雷射系統(tǒng)整合產(chǎn)業(yè)、平面顯示器、綠色能源、納米科技及分析化學(xué)檢測設(shè)備制造商及使用者。

            激光器,半導(dǎo)體激光器,光纖耦合半導(dǎo)體激光器,高功率半導(dǎo)體激光器,光束整形器,推拉力測試機,X光無損檢測系統(tǒng),超聲波掃描成像顯微鏡

             DRE公司設(shè)計的基于誤差修正的步進馬達和MinSearch算法基礎(chǔ)上的高精度橢偏儀,測量更為簡單、快速,而且結(jié)果更為準(zhǔn)確。樣品的Alignment非常簡單,只需調(diào)整樣品臺下方的旋鈕,改變 Light Angle Light Intensity,并借助四象限探測器在計算機屏幕上顯示的調(diào)整狀況,便可在不超過 30 秒鐘的時間內(nèi)完成。無需經(jīng)常做儀器校準(zhǔn)。由于使用高精度的 Step Motor,且無需使用Reference Sample經(jīng)常進行做儀器Calibration??蛇M行超薄膜(皮米級)的分析??蛇M行半導(dǎo)體Si Wafer 表面灰塵的分析,這是目前所有橢偏儀廠商中*具備此項功能的一家。薄膜粗糙度 (Roughness) 的表征也是目前所有制造廠中*特色的一家??蛇M行變溫(液氮至400ºC)測量??焖?/SPAN>Mapping測量。使用X-Y 樣品臺, 進行 1 /點的Mapping 或微秒/點的快速掃描??煞治?/SPAN> 8" 甚至于 12" Si Wafer的厚度變化??蛇M行微區(qū)分析(激光焦斑的尺寸可達1微米)。應(yīng)用范圍非常廣泛:如Si襯底上的SiO2SixNy薄膜,光電子涂層,各種磁性薄膜,平板顯示工業(yè)的 ITO薄膜和薄膜晶體管的結(jié)構(gòu),生物和化學(xué)工業(yè)的各種有機層、分子膜,光觸媒用TiO2 薄膜分析,鋁熱交換器表面抗氧化薄膜,奔馳汽車引擎或汽缸激光焊接前的清潔薄膜分析等。同時,提供多種光譜儀選擇,如回轉(zhuǎn)檢偏器(RAE),高精度,消光型(Null Ellipsometer),光譜型(Spectroscopic Ellipsometer190~2400 nm,可選),超高精度傳動等。


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