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            產(chǎn)品展廳

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            L20002 Ossila紫外臭氧清洗機(jī)

            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 公司名稱 華儀行(北京)科技有限公司
            • 品牌 Ossila/歐西拉
            • 型號(hào) L20002
            • 產(chǎn)地
            • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
            • 更新時(shí)間 2024/10/25 14:03:07
            • 訪問次數(shù) 3328

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            企業(yè)歷程 :

            ◆ 2006 年,在美國加州洛杉磯注冊(cè)成立賽福國際集團(tuán)有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大學(xué)科研院所銷售儀器設(shè)備的供應(yīng)商。

            ◆ 2008 年, 自主研發(fā)生產(chǎn)石墨電熱板以來, 先后研發(fā)生產(chǎn)酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備, 從此走上研發(fā)生產(chǎn)專業(yè)化道路。

            ◆ 2010 年,掌握了等離子核心技術(shù),自主研發(fā)生產(chǎn)科研型等離子清洗機(jī)系列產(chǎn)品。

            ◆ 2014 年, 在中國注冊(cè)成立華儀行(北京) 科技有限公司, 正式進(jìn)入中國市場, 部分儀器設(shè)備研發(fā)、制造業(yè)務(wù)移至中國。

            ◆ 2015 年,自主研發(fā)生產(chǎn)專為處理粉體樣品而設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)。

            ◆ 2017 年,自主研發(fā)生產(chǎn)紫外臭氧清洗機(jī)系列產(chǎn)品。

            ◆ 2018 年,在中國成注冊(cè)立賽福儀器承德有限公司,將研發(fā)制造業(yè)務(wù)全部移至中國。

            ◆ 2019 年,電鏡專用遠(yuǎn)程等離子清洗機(jī)研發(fā)成功。

            ◆ 2021 年,自主研發(fā)生產(chǎn)中試、生產(chǎn)型等離子清洗系列產(chǎn)品,完善了等離子產(chǎn)品線。

            ◆ 2023 年,科研型等離子去膠機(jī)、RIE 蝕刻機(jī)研發(fā)成功。


            公司專注材料表面處理技術(shù):

            ◆ 改性(等離子清洗機(jī)、紫外臭氧清洗機(jī))                   ◆ 去膠(等離子去膠機(jī))

            ◆ 蝕刻(等離子刻蝕機(jī))                                              ◆ 涂層(等離子濺射鍍膜機(jī)、勻膠機(jī)、烤膠機(jī))

            企業(yè)愿景:

            致力于為全球用戶提供專業(yè)的表面處理整體解決方案。

            企業(yè)使命:

            CIF與我們的員工、客戶乃至商業(yè)伙伴在內(nèi)的所有人,同呼吸,共命運(yùn),共同成長,共同發(fā)展,共同成就夢想!


            半導(dǎo)體領(lǐng)域儀器設(shè)備:等離子清洗機(jī)、紫外臭氧清洗機(jī)、勻膠機(jī)、烤膠機(jī)等。 理化實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備:酸蒸逆流清洗器、真空趕酸系統(tǒng)、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板等

            產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,地礦

            紫外臭氧清洗機(jī)UVO)


            英國Ossila公司提供的紫外臭氧清洗機(jī)UVO,是一種簡單,經(jīng)濟(jì),快速的材料表面清洗設(shè)備,只需把樣品放置到樣品盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時(shí)間,并按運(yùn)行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí),紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!

            目前紫外臭氧清洗機(jī)的主要應(yīng)用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì)。

            u 表面UV光清洗:利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE,對(duì)有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用,以達(dá)到去除粘附在物體表面上的有機(jī)化合物(碳?xì)浠衔铮?,獲得超潔凈的表面。

            u 表面UV光改質(zhì):利用紫外光照射有機(jī)表面,在將有機(jī)物分解的同時(shí),254nm波長的紫外光被物體表面吸收后,將表層的化學(xué)結(jié)構(gòu)切斷,光子作用產(chǎn)生原子氧會(huì)與被切斷的表層分子結(jié)合,并將之變換成具有高度親水性的官能基(如-OH,-CHO,-COOH),從而提高表面的浸潤性。

            主要應(yīng)用

            • 石英/玻璃制品的表面清洗:液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。

            • 微電子產(chǎn)品的表面清洗:微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動(dòng)架,光盤,光電器件,手機(jī)攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版。

            • 精密集成電路的表面清洗:液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結(jié)墊的清洗。

            • 在膠粘接或是印刷之前,對(duì)高分子聚合制品的表面改性:橡膠粘接,塑料汽車部件,透鏡保護(hù)膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導(dǎo)管的表面改型等。

                      科研過程的表面清洗及處理:半導(dǎo)體,生物芯片,納米材料,聚合物,光化學(xué)等

            產(chǎn)品特點(diǎn)

            • 成本低。

            • 120x120mm樣品臺(tái)。

            • 大處理樣品高14mm。

            • 抽屜式樣品臺(tái),簡單方便。

            • 樣品臺(tái)自動(dòng)安全開關(guān),打開UV自動(dòng)關(guān)閉,防止對(duì)人身傷害。    

            • LCD屏顯示“已用時(shí)間”和“剩余時(shí)間”。

            • UVO顯示器

            • 60分鐘定時(shí)器。

            • 高強(qiáng)度UV燈源。

            • 可控溫的樣品臺(tái)。

            • 樣品清洗無需溶劑。

            • 超凈表面。

            UVO樣品托盤

            二、技術(shù)參數(shù)


            紫外燈類型

            低壓石英水銀蒸汽燈

            紫外線燈的主要波長

            185nm和254nm

            UV燈管尺寸

            100x100mm

            UV燈電源

            4000V,30mA

            UV燈壽命

            每天使用可用8-10年

            適用電壓

            230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz)

            大運(yùn)行時(shí)間

            59分59秒

            安全

            安全聯(lián)鎖,高溫報(bào)警,高溫?cái)嚯姟?/span>

            托盤尺寸

            120x120mm

            大樣品尺寸

            100x100mm

            總尺寸

            長204mm、高227mm、寬300mm


            紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質(zhì)上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。





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