Minilock-Phantom III ICP 等離子刻蝕ICP
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 Minilock-Phantom III ICP
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/6/17 16:46:07
- 訪問次數(shù) 2379
產(chǎn)品標(biāo)簽
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產(chǎn)地類別 | 進口 |
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系統(tǒng)有多達七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜,如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。該反應(yīng)室還可以用于去除光刻膠和有機材料??蛇x配靜電吸盤(E-chuck),以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。該E-chuck使用氦壓力控制器,及在基片背面保持一個氦冷卻層,從而達到控制基片溫度的作用。
該設(shè)備可選配一個電感耦合等離子(ICP)源,其使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能。
基片通過預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸,從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下,從而隔絕外部濕氣,防止反應(yīng)室內(nèi)可能發(fā)生的腐蝕。