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            官方微信|手機(jī)版
            
			
			
            
				
			
            
		
            
  

              
            

            
			
				
			
			
            產(chǎn)品展廳
            
			
            產(chǎn)品求購企業(yè)資訊會展
            
 			
            
				
				
				
			
            
			
            
				發(fā)布詢價單
			
            
         
		
            
  
            
    
            化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>其它實驗室常用設(shè)備>其它實驗室設(shè)備>Minilock-Orion III PECVD  PECVD沉積 
            
  
            
  
            
  
    
      
            

			
            Minilock-Orion III PECVD  PECVD沉積
            
			
            
			
			
							
				
            
													
            
							    							
            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            
							
            
											
            
						
					
            
										
            
						產(chǎn)品標(biāo)簽
						
            薄膜沉積PECVD沉積
            
					
            
										
            
						
												
            聯(lián)系方式：劉先生查看聯(lián)系方式
            
						
            聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
            
											
            
				
            
							
            
			
			
		
            
		
            
  
            
  
    
  
            
    
    
    
    
     
            
  
            
  	  	
            
  		
  		
            
  			
            
  			
            
	  			
             
            FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料學(xué)博士共同創(chuàng)辦的德國公司?；?/span> “Science is international”的想法，“全球協(xié)同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。
            公司愿景是從科學(xué)家到科學(xué)家，科學(xué)開創(chuàng)美好未來。
            FIRSTNANO深耕于半導(dǎo)體技術(shù)、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域，始終秉承“前沿、專業(yè)、科學(xué)”的宗旨，將前沿技術(shù)引進(jìn)到協(xié)同實驗室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程；材料科學(xué)的檢測、分析；生命科學(xué)成像，腦科學(xué)與行為認(rèn)知等相關(guān)領(lǐng)域。作為全球科技前沿的儀器供應(yīng)商，FIRSTNANO具有全球技術(shù)視野、優(yōu)質(zhì)供應(yīng)體系、以及嚴(yán)格的質(zhì)量管控系統(tǒng)，能為客戶提供前沿的技術(shù)解決方案。
            公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛，其中包括消費(fèi)電子、航空、航天、醫(yī)藥技術(shù)、半導(dǎo)體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機(jī)構(gòu)。
            在成長的過程中，我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來，我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機(jī)構(gòu)。
            我們真誠邀請業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢想揚(yáng)帆起航！
             
             
             
             
            
	  		
            
  		
            
		
  		
            
  		
            
  			
            
  			
            
  				
            半導(dǎo)體儀器和電子產(chǎn)品耗材耗材
            
  			
            
  		
            
  		
            
		
		
  	
            
  	
            
  		
	    
            
      		
            
			        
            
	    	                                	            
            
    	                	            產(chǎn)地類別
    	            進(jìn)口
                        	            	    	   	 
            
			
            
    					
    
            　　PECVD沉積
             
            　　Minilock-Orion III是一套zui xian jin的等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)。 系統(tǒng)的下電極尺寸可為200mm或300mm，且根據(jù)電極配置，可以處理單個基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸)，或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。
             
            　　Minilock-Orion III用于有毒/發(fā)火PECVD工藝。沉積薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物、無定形硅和碳化硅。工藝氣體：100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮、*基硅烷和甲烷。
             
            　　該系統(tǒng)可選配一個三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力。
             
            　　基片通過預(yù)真空室裝入工藝室，其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶的安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而保持反應(yīng)室與大氣隔絕。
             
            
	    
            
		    
    
  	
            
  
            
  
            
    	
    
    
  
            

            

            
        		
            
		
  
  
            
		
		
	
            




	
	
                
            
	
		
		
            
			
            
			
            
				
            
				
					
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