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            產(chǎn)品展廳

            產(chǎn)品求購(gòu)企業(yè)資訊會(huì)展

            發(fā)布詢價(jià)單

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            ALD R-200 原子層沉積系統(tǒng)

            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

            聯(lián)系方式:陳秋平查看聯(lián)系方式

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            廣州競(jìng)贏有限公司是一家綜合性的商貿(mào)企業(yè),集實(shí)驗(yàn)室設(shè)備經(jīng)銷、實(shí)驗(yàn)室組建策劃于一體。公司經(jīng)營(yíng)的商品主要包括:Ted Pella公司微波快速組織處理系統(tǒng)及電鏡耗材、DOSAKA切片機(jī)、英國(guó)Aquila NKD薄膜分析系統(tǒng)、法國(guó)CAD混凝土流變儀、英國(guó)MILLBROOK公司 MiniSIMS二次離子質(zhì)譜儀、美國(guó)NEOCERA公司 PLD/PED沉積系統(tǒng)等生化儀器,檢測(cè)儀器、環(huán)保儀器、化學(xué)試劑、實(shí)驗(yàn)室耗材等。目前,競(jìng)贏公司與國(guó)內(nèi)外數(shù)百家實(shí)驗(yàn)儀器生產(chǎn)廠家有著良好的業(yè)務(wù)聯(lián)系和協(xié)作關(guān)系,客戶涉及高校、科研院所、醫(yī)院、企業(yè)、政府部門(mén)等多個(gè)領(lǐng)域。競(jìng)贏員工90%以上擁有學(xué)士、碩士學(xué)位,雄厚的技術(shù)實(shí)力是競(jìng)贏公司質(zhì)量和服務(wù)的有力保證。 “專業(yè)精神、真誠(chéng)服務(wù)”是競(jìng)贏化工的服務(wù)宗旨。我們不懈地追求完善的售前、售后服務(wù)以提高客戶滿意度。為了全面提升競(jìng)贏公司的服務(wù)質(zhì)量,除了不斷引進(jìn)新的產(chǎn)品,近年來(lái)我們更著重于從優(yōu)化組織構(gòu)架、培訓(xùn)提升員工服務(wù)意識(shí)等。面對(duì)新的挑戰(zhàn),我們深沉思索、感悟良多,“學(xué)習(xí)成就未來(lái)”將指導(dǎo)我們明確方向、激勵(lì)我們追求*!



            實(shí)驗(yàn)室儀器,鍍膜儀,電鏡耗材,離子濺射儀,振動(dòng)切片機(jī)

            產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 100萬(wàn)-200萬(wàn)
            應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè)

            ALD R-200原子層沉積系統(tǒng)產(chǎn)品介紹:

            PICOSUN™ R系列設(shè)備提供高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術(shù),并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性,包括挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級(jí)的,易更換的前驅(qū)源系統(tǒng),能夠在晶圓、3D樣品和各種納米特性的樣品上生長(zhǎng)顆粒度小的薄膜層。在基本的PICOSUN™ R系列配置中可以選擇多個(gè)獨(dú)立的,*分離的源入口匹配多種類型的前驅(qū)源。PICOSUN™ R系列*的擴(kuò)展性使ALD工藝可以從研究環(huán)境直接過(guò)渡到生產(chǎn)環(huán)境的PICOSUN™ P系列ALD系統(tǒng)。由于研發(fā)型與生產(chǎn)型PICOSUN™反應(yīng)腔室核心設(shè)計(jì)特點(diǎn)都是相同的,這消除了實(shí)驗(yàn)室與制造車間之間的鴻溝。對(duì)大學(xué)來(lái)說(shuō),突破創(chuàng)新的技術(shù)轉(zhuǎn)化到生產(chǎn)中,就會(huì)吸引到企業(yè)投資。

            ALD R-200原子層沉積系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo):

            襯底尺寸和類型


            50 – 200 mm /單片

            156 mm x 156 mm 太陽(yáng)能硅片

            3D 復(fù)雜表面襯底

            粉末與顆粒

            多孔,通孔,高深寬比(HAR)樣品

            Roll-to-roll , 襯底大寬 70 mm

            工藝溫度

            50 – 500 °C, 可選更高溫度

            基片傳送選件

            氣動(dòng)升降(手動(dòng)裝載)

            預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手(Load lock )

            半自動(dòng)裝載,用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)

            25片晶圓盒對(duì)盒式全自動(dòng)裝載(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)


            前驅(qū)體

            液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源、等離子體(多4路氣體)

            6根獨(dú)立源管線,多加載12個(gè)前驅(qū)體源(加上Plasma管路,共7根獨(dú)立源管線)

            重量

            350kg+ 200 kg

            尺寸( W x H x D))

            取決于選件

            小146 cm x 146 cm x 84 cm

            大189 cm x 206 cm x 111 cm

            選件

            集群工具,PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)器,集成橢偏儀,QCM,RGA,超高真空兼容,N2發(fā)生器,尾

            氣處理器,定制設(shè)計(jì),手套箱集成(用于惰性氣體下裝載)

            驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)

            標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝


            應(yīng)用領(lǐng)域:

            客戶使用PICOSUN™ R系列ALD 設(shè)備在150mm和200mm(6“和8”)晶圓上所沉積薄膜厚度均勻性數(shù)據(jù)。

            材料

            非均勻性(1σ)

            AI2O3 (batch)

            0.13 %

            SiO2 (batch)

            0.77 %

            TiO2

            0.28 %

            HfO2

            0.47 %

            ZnO

            0.94 %

            Ta2O5

            1.0 %

            TiN

            1.10 %

            CeO2

            1.52 %

            Pt

            3.41 %





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