金屬/陶瓷工藝

確保連續(xù)操作與較長(zhǎng)使用壽命兼?zhèn)洹?/span>

特別設(shè)計(jì)的冷卻系統(tǒng)

MF4冷卻系統(tǒng)也有助于延長(zhǎng)長(zhǎng)期*操作，因?yàn)槠涮貏e設(shè)計(jì)的銅質(zhì)冷卻器，優(yōu)化了氣流、達(dá)到大冷卻效果。  

曝光

操作從5千伏開始，使低密度材料的曝光成為可能，如生成高反差圖像的鋁，復(fù)合材料，塑料。  

低能耗

ERESCO部件的電力電子設(shè)備提供1到2千瓦每小時(shí)的極低能耗。

全圖形顯示

提供直觀的用戶界面。簡(jiǎn)單并可引導(dǎo)用戶操作。

板載曝光計(jì)算器

通過*的ERESCO功率模式能夠確定曝光條件并進(jìn)一步減少曝光時(shí)間 程序和記錄功能有效地縮短了X射線參數(shù)輸入和調(diào)整時(shí)間。

微處理器平臺(tái)

提供快捷安全的管頭智能控制功能，如自動(dòng)管頭識(shí)別，事件記錄，多語言用戶界面與不同的曝光程序。

主要特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)

• 在同級(jí)別中帶有圖像清晰度的功率輸出

• 高X射線劑量可實(shí)現(xiàn)短時(shí)間曝光，同時(shí)提高生產(chǎn)率

• 30°C下占空系數(shù)為100%的操作

• 輕便與緊湊的設(shè)計(jì)

• 控制器與管頭的堅(jiān)固結(jié)構(gòu)允許在惡劣環(huán)境下進(jìn)行操作

• 低能耗可實(shí)現(xiàn)較長(zhǎng)的電池壽命，帶有便攜式電源或電池組的靈活操作以及節(jié)約能源

• 板載電子設(shè)備允許獨(dú)立操作并在爬行器內(nèi)部集成。

• 產(chǎn)品種類包括氣冷、水冷、周向機(jī)與小焦點(diǎn)。

• 齊全的附件，包括曝光設(shè)置期間輔助定位的架子與箱體。

便攜式數(shù)字控制器

便攜式ERESCOX射線數(shù)字控制突出了現(xiàn)代技術(shù)與電子設(shè)備，并有著堅(jiān)固的構(gòu)造，以應(yīng)對(duì)頻繁且長(zhǎng)時(shí)間的現(xiàn)場(chǎng)使用。

MF4控制器符合人體工程學(xué)，有助于實(shí)現(xiàn)安全有效的操作， 幾個(gè)板載裝置，如曝光計(jì)算器，參數(shù)監(jiān)測(cè)器，或編程/記錄工具正使檢測(cè)變得簡(jiǎn)化。  

大屏幕、背光顯示器即使在強(qiáng)烈日光下也能方便的觀察，并能夠使用多達(dá)19種語言提供系統(tǒng)狀態(tài)的詳細(xì)信息。所有的操作和設(shè)置參數(shù)可通過功能鍵（一個(gè)字母數(shù)字鍵盤和若干光標(biāo)鍵）進(jìn)行輸入。 菜單驅(qū)動(dòng)界面實(shí)現(xiàn)了易用性。 或者設(shè)置參數(shù)可以從預(yù)先輸入的儲(chǔ)存在穩(wěn)定的內(nèi)存中的250個(gè)曝光程序的儲(chǔ)庫(kù)中檢索。 此外，這些程序可以被單獨(dú)命名或加注釋，并可以下載、修改、上傳和歸檔。 在功率模式操作中，對(duì)大管電流進(jìn)行計(jì)算并設(shè)置，以減少曝光時(shí)間。除了警示燈、安全聯(lián)鎖裝置和泵的界面外，MF4控制器也提供了一個(gè)外部控制或基于PC工具通訊的串行接口。

恒電位高輸出量的MF技術(shù)

ERESCO MF 技術(shù)允許X射線發(fā)生器在功率模式下操作，因?yàn)?，與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的發(fā)生器產(chǎn)品不同，它可以驅(qū)動(dòng)高管電流。 因此，高達(dá)900 W的連續(xù)額定功率和高電流確保在ERESCO MF4范圍的X射線發(fā)生器提供200千伏至300千伏級(jí)的圖像清晰度。