CVD/MOCVD專用氫氣發(fā)生器
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 英國普拉勒科技有限公司-普拉勒（南京）儀器科技有限公司
- 品牌 PECULIAR/普拉勒
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/4/1 13:49:08
- 訪問次數(shù) 7465
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,綜合 |
CVD（Chemical Vapor Deposition）和MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition）是兩種常用的化學氣相沉積技術(shù)，用于制備薄膜、涂層和納米材料等。
CVD是一種通過在反應(yīng)室內(nèi)將反應(yīng)物質(zhì)以氣體形式傳輸并在襯底表面發(fā)生化學反應(yīng)，從而在襯底上形成所需材料的方法。該過程涉及到化學反應(yīng)、氣體輸運和表面擴散等多個步驟。在CVD過程中，通過控制反應(yīng)氣體的組成、流速、溫度和壓力等參數(shù)，可以實現(xiàn)對所生長材料的成分、結(jié)構(gòu)和性能的精確控制。
而MOCVD是一種特殊的CVD技術(shù)，主要用于生長復雜化合物薄膜，如半導體材料、光電材料等。MOCVD利用金屬有機前驅(qū)物（通常是金屬有機化合物）和載氣（如氫氣、氮氣）在高溫條件下反應(yīng)，使金屬有機前驅(qū)物分解并釋放金屬原子，然后這些金屬原子與載氣中的其他氣體反應(yīng)，最終在襯底表面形成所需薄膜。
CVD，MOCVD專用氫氣發(fā)生器由超純水機制取二級水，并儲存至水箱備用。氫氣發(fā)生器缺水時，自動供給至氫氣發(fā)生器。多臺氫氣發(fā)生器可串聯(lián)使用，通過串聯(lián)控制線由一臺發(fā)生器控制其他發(fā)生器，實現(xiàn)產(chǎn)氣均勻分配。（以兩臺設(shè)備為例控制圖如下）
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