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            產(chǎn)品展廳

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            化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>去膠機(jī)> Pluto-MD等離子去膠機(jī)

            Pluto-MD等離子去膠機(jī)

            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 公司名稱(chēng) 武漢賽斯特精密儀器有限公司
            • 品牌 其他品牌
            • 型號(hào)
            • 產(chǎn)地
            • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
            • 更新時(shí)間 2020/7/23 2:00:45
            • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 770

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              武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專(zhuān)業(yè)研發(fā),以力學(xué)試驗(yàn)機(jī)儀器為主,同時(shí)銷(xiāo)售各種、中低端分析儀器?,F(xiàn)有員工60多人,公司成功開(kāi)發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗(yàn)軟件,并采用全數(shù)字化,操作簡(jiǎn)捷,*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求,公司亦通過(guò)了ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證和國(guó)家計(jì)量體系認(rèn)證,榮獲了“武漢市第九界消費(fèi)者滿(mǎn)意單位”的稱(chēng)號(hào)。
              產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子、高校、政府研究機(jī)構(gòu)、環(huán)保機(jī)構(gòu)、石油化工、紡織制造、第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)、*別研究院、新能源、集成電路、芯片、封裝測(cè)試、半導(dǎo)體行業(yè)、顯示器領(lǐng)域、光電材料、鋰電池、機(jī)械生產(chǎn)等領(lǐng)域。并與武漢理工大學(xué)、華中科技大學(xué)等建立了長(zhǎng)期合作,每年投入大量研究經(jīng)費(fèi),招攬各方優(yōu)秀的技術(shù)人才加盟突破國(guó)內(nèi)技術(shù)壁壘,不斷攻克新的技術(shù)難題,另外公司還積極拓展海外業(yè)務(wù),產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)越南,印度,埃及等國(guó)家和地區(qū)。
              本著“專(zhuān)業(yè)品質(zhì),專(zhuān)業(yè)服務(wù)”為宗旨,以“科技、品質(zhì)、競(jìng)爭(zhēng)、創(chuàng)新”為理念,通過(guò)不斷汲取新的技術(shù),新的理念,繼續(xù)開(kāi)發(fā)研制新產(chǎn)品,并為廣大客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的售前,售中,售后服務(wù)。熱烈歡迎廣大新老朋友業(yè)函,來(lái)電,蒞臨我公司參觀指導(dǎo)!


             

            實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)儀器,測(cè)試儀器設(shè)備等

            產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,電子

            Pluto-MD等離子去膠機(jī)

            產(chǎn)品介紹 :

            去膠工藝是微加工過(guò)程中一個(gè)重要的過(guò)程,在電子束曝光,紫外曝光等微納米加工工藝后,都要對(duì)光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對(duì)樣片是否有損傷等問(wèn)題,將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件,可對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精細(xì)控制。它的工藝監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。

            產(chǎn)品性能:

            經(jīng)過(guò)真空檢漏316不銹鋼腔體, 具備更好密封性能和保壓能力

            5L腔體,雙層電極,離子密度可控

            13.5EMHz射頻等離子源,兼容物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng),覆蓋全部樣品種類(lèi)

             

            創(chuàng)新可調(diào)電極,可以調(diào)整有效處理面積中等離子體的能量密度

            標(biāo)配兩路氣體,適應(yīng)更多用戶(hù)需求。

             

            Pluto-MD等離子去膠機(jī)采用電容觸摸屏,全數(shù)字控制。

            全手動(dòng)控制和預(yù)設(shè)工藝參數(shù)自動(dòng)運(yùn)行

             

            Pluto-MD等離子去膠機(jī) 產(chǎn)品參數(shù):

             

             

             



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