二手電鏡，二手場發(fā)射電鏡一、主要部件：

S-4300主機(包括真空系統(tǒng)、電子光學系統(tǒng)、檢測器)、X射線能譜儀，E-1030噴金噴碳裝置等。

二、主要性能指標：

二次電子分辨率：1.0 nm(15 kV)；2.0 nm(1 kV)；背散射電子分辨率：3.0 nm (15 kV)；電子槍：冷場發(fā)射電子源，加速電壓：0.5 ~ 30 kV(0.1 kV/步，可變)；放大倍率：×30 ~ × 800,000；X射線能譜儀的元素分析范圍為Be4~U92；噴金噴碳裝置可以通特定的氣氛保護樣品。

三、設備特點及應用范圍：

S-4800型高分辨場發(fā)射掃描電鏡(簡稱S-4800)為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場，物鏡為半浸沒式。在高加速電壓(15 kV)下，S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm，這是目前半浸沒式冷場發(fā)射掃描電鏡所能達到的。該電鏡在低加速電壓(1 kV)下的二次電子圖像分辨率為2 nm，這有利于觀察絕緣或?qū)щ娦圆畹臉悠贰-4800的主要附件為X射線能譜儀。利用S-4800和X射線能譜儀可以在觀察樣品表面微觀形貌的同時進行微區(qū)成分定性和定量以及元素分布分析。此次所購X射線能譜儀的元素分析范圍為Be4~U92，從而可以分析輕元素。由于S-4800不能在低真空條件下工作，因此不適合直接觀察含水和含油樣品。

二手電鏡，二手場發(fā)射電鏡采用了新型 ExB 式探測器和電子束減速功能, 提高了圖象質(zhì)量(15 kV 下分辨率 1 nm) ， 尤其是將低加速電壓下的圖象質(zhì)量提高到了新的水平(1 kV 下 1. 4 nm) ； 新型的透鏡系統(tǒng)， 提高了高分辨模式、 高速流模式、 大工作距離模式、 磁性樣品模式等多種工作模式， 使其能夠精確和清楚地捕捉最短暫的瞬間。 目前掃描電子顯微鏡的最主要組合分析功能有: X 射線顯微分析系統(tǒng)（即能譜儀, EDS）， 主要用于元素的定性和定量分析， 并可分析樣品微區(qū)的化學成分等信息； 電子背散射系統(tǒng) （即結(jié)晶學分析系統(tǒng)）， 主要用于晶體和礦物的研究。