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            Transpector® SPS 殘余氣體分析儀

            具體成交價以合同協(xié)議為準
            • 公司名稱 杭州太昊科技有限公司
            • 品牌 INFICON/美國
            • 型號
            • 產(chǎn)地
            • 廠商性質(zhì) 代理商
            • 更新時間 2025/4/1 8:29:48
            • 訪問次數(shù) 2656

            聯(lián)系方式:王建峰查看聯(lián)系方式

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                  杭州太昊科技有限公司是INFICON的授權(quán)代理商,專業(yè)銷售INFICON旗下的真空產(chǎn)品及設備,同時致力于先進真空技術(shù)的推廣和應用,為廣大用戶改進生產(chǎn)工藝,提升競爭力提供產(chǎn)品服務和技術(shù)支持。

                  目前,公司所經(jīng)營的產(chǎn)品主要有三大類: 一、膜厚控制/監(jiān)測系統(tǒng),產(chǎn)品包括膜厚控制儀、膜厚監(jiān)測儀、傳感器探頭、振蕩器及坩堝控制儀等;二、氣體檢漏/分析系統(tǒng),產(chǎn)品有氦質(zhì)譜檢漏儀、冷媒檢漏儀、四極質(zhì)譜儀(即殘余氣體分析儀)及其他類型檢漏儀;三、真空監(jiān)測/控制系統(tǒng),產(chǎn)品主要包括:真空規(guī)、壓強控制儀、質(zhì)量流量計、真空閥門、真空密封件等;產(chǎn)品應用覆蓋光電技術(shù)、太陽能薄膜、半導體制造、照明電器、空調(diào)制冷、科研、航天、汽車制造等眾多行業(yè)和領(lǐng)域。公司本著“積極進取、開拓創(chuàng)新”的精神,不斷提升專業(yè)技能、完善運營細節(jié),兢兢業(yè)業(yè)、勤勤懇懇,旨在為廣大用戶提供更好的真空技術(shù)支持和更加完善的售后服務。

            我們的理念是“完善自我,攜手用戶,精誠合作,共同進步”。我們以我們的誠信和服務贏得用戶的肯定和信任,以客戶的肯定和信任作為我們孜孜以求的動力和目標,期待更多新老朋友來電來函咨詢業(yè)務,洽談合作!







            氦質(zhì)譜檢漏儀,冷媒檢漏儀,真空計,膜厚控制儀,流量控制器,氣體分析儀,真空泵及耗材,晶振片

            產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 面議
            應用領(lǐng)域 電子/電池,綜合

            Transpector® SPS 殘余氣體分析儀



            INFICON Transpector® 單壓取樣 (SPS) 殘余氣體分析儀為目標高壓過程提供上佳半導體晶圓和顯示屏面板保護。憑借適合單壓應用的zui敏感空氣泄漏和過程污染檢測,Transpector SPS 可蕞大程度減少晶圓和面板報廢。它具有業(yè)內(nèi)比較的檢測限值和測量速度,確保晶圓和面板產(chǎn)品的質(zhì)量和數(shù)量。Transpector SPS 提供可靠的過程監(jiān)控,確保實現(xiàn)穩(wěn)定的高壓過程,進而大程度提高過程能力和產(chǎn)量。該儀器融合了簡單且高成本效益的入口系統(tǒng)與經(jīng)實踐驗證的離子源和泵組,以提供低風險、多回報的氣體分析解決方案。Transpector SPS 是一種經(jīng)過驗證的解決方案,適用于真空電弧重熔 (VAR) 等冶金和熱處理應用,且是一般真空和工業(yè)應用的理想之選。Transpector SPS 可根據(jù)具體應用和預算進行配置和定制。 針對從 1E-4 Torr 到大氣的取樣過程壓強,均可選用標準孔板、劈刀和旁路線組合。耐腐蝕入口、離子源和泵組的設計可確保在蝕刻、CVD、ALD 和其他腐蝕性氣體過程中的耐受性。


            好處

            1,得益于單壓取樣入口,很大程度降低晶圓和面板保護的總擁有成本;是擴散、外延和 RTP 等高壓 過程的理想之選

            2,提供蕞低漏氣量和污染監(jiān)測,確保恒定高壓過程

            3,通過 強大數(shù)據(jù)采集與同步實現(xiàn)無縫工廠集成和可靠阻斷

            4,通過定制 配方優(yōu)化增強生產(chǎn)能力

            5,通過即時現(xiàn)場專家響應保護關(guān)鍵過程需求


            典型應用

            1,PVD 過程

            2,擴散和外延過程

            3,蝕刻過程包括:金屬、電介質(zhì)、硅刻蝕, HDP-etch

            4,CVD 過程包括:高 k 電介質(zhì)、HDP-CVD、LP-CVD、SA-CVD、CVD 低 k、PE-CVD

            Transpector® SPS 殘余氣體分析儀





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