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            CER的SE 500adv 結(jié)合橢偏反射

            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
            • 品牌 其他品牌
            • 型號(hào) CER的SE 500adv
            • 產(chǎn)地
            • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
            • 更新時(shí)間 2024/7/10 9:33:43
            • 訪問(wèn)次數(shù) 1079

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            北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊(duì),專精的服務(wù),提供理想的解決方案。

            我們長(zhǎng)期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,用科技來(lái)解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫(xiě)新篇章。

            北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器。

            客戶至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

            合作丨共贏,選擇我們,選擇未來(lái)!

             

            半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

            產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電子/電池

            厚度確定

            橢偏測(cè)量和反射測(cè)量的結(jié)合允許通過(guò)自動(dòng)識(shí)別循環(huán)厚度周期來(lái)快速且明確地確定透明膜的厚度。

            寬的測(cè)量范圍

            激光橢偏儀和反射儀的結(jié)合將透明薄膜的厚度范圍擴(kuò)展到25μm,更多地取決于光度計(jì)的選項(xiàng)。

            擴(kuò)展激光橢偏儀的極限

            結(jié)合橢偏反射性能優(yōu)異的多角度手動(dòng)角度計(jì)和角度精度*的激光橢偏儀允許測(cè)量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。


            SE 500adv結(jié)合了橢偏儀和反射儀,了測(cè)量透明膜層厚度的模糊性。它把可測(cè)量的厚度擴(kuò)展到25m,因此SE 500adv擴(kuò)展了標(biāo)準(zhǔn)激光橢偏儀SE 400adv的能力,特別適用于分析較厚的介質(zhì)膜、有機(jī)材料、光阻、硅和多晶硅薄膜。

            SE 500adv可作為激光橢偏儀、膜厚探針和CER橢偏儀使用。因此,它提供了標(biāo)準(zhǔn)激光橢偏儀從未達(dá)到的靈活性。作為橢偏儀,可以進(jìn)行單角度和多角度測(cè)量。當(dāng)用作膜厚探針時(shí),在正常入射下測(cè)量透明或弱吸收膜的厚度。

            SE 500adv結(jié)合橢偏反射中的橢偏測(cè)量和反射測(cè)量的組合包括橢圓測(cè)量光學(xué)部件、角度計(jì)、組合反射測(cè)量頭和自動(dòng)準(zhǔn)直透鏡、樣品臺(tái)、氦氖激光光源、激光檢測(cè)單元和光度計(jì)。

            SE 500adv的選項(xiàng)支持在微電子、微系統(tǒng)技術(shù)、顯示技術(shù)、光伏、化學(xué)等領(lǐng)域的應(yīng)用。


            X-y-mapping stageThickness map of spin coated photoresist / Si (substrate) with step size of 500 µm and 100 µm11SE 500-300 with manual stage and autofocusCombined laser ellipsometer with reflectometer




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