關(guān)鍵特征

● CO?氣相還原-PLR-HGPR高溫高壓反應(yīng)系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)較低氣體流速的高溫高壓下的微分式光催化反應(yīng)；

● 可用于氣-固相光催化、液固相光催化反應(yīng)的微分式和積分式光化學(xué)反應(yīng)；

● 氣體流速可三路獨(dú)立控制，使用超厚石英光窗，可用于全光譜范圍內(nèi)的光化學(xué)反應(yīng)；

● 具有二級(jí)穩(wěn)流閥及二級(jí)穩(wěn)壓閥控制，三路進(jìn)氣可分別控制。

應(yīng)用領(lǐng)域

▲特別適用   ●較為適用  ○可以使用

▲ 光降解液體污染物（如染料、苯及苯系物等）        ▲ 光催化CO₂還原

▲ 其他高溫高壓（光）化學(xué)反應(yīng)        

● 光催化分解水制氫/氧                   ● 光催化全分解水                                

● 光降解氣體污染物（如VOCs 、甲醛、氮氧化物、硫氧化物等）                                             

○ 光催化量子效率測(cè)量                    ○光合成                 ○ PEC光電化學(xué)

技術(shù)參數(shù)

● CO?氣相還原-PLR-HGPR高溫高壓反應(yīng)系統(tǒng)反應(yīng)溫度 :室溫+10~300 ℃ (可達(dá)380℃);

● 反應(yīng)壓力:1~10 MPa;

● 反應(yīng)容積:50 mL（可定制25、100 mL）;

● 氣路數(shù)量:3路;

● 氣體總流量:1~60 mL/min;

● 具有安全泄壓閥:7 MPa（可調(diào)節(jié)）；反應(yīng)體系溫度、壓力儀表顯示;

● 獨(dú)立高壓氣體混勻室 :1 L，保證氣體在實(shí)驗(yàn)中的連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間供應(yīng)；具有二級(jí)穩(wěn)流閥及二級(jí)穩(wěn)壓閥控制，三路進(jìn)氣可分別控制;

● 末端電子皂膜流量計(jì)，用于氣體流量監(jiān)測(cè)（10~60 mL/min寬范圍調(diào)節(jié)）;

● 整體安全一體式防護(hù)箱設(shè)計(jì)，保證了實(shí)驗(yàn)的安全性;