1 產(chǎn)品介紹

頂旭桌面光刻機(jī)/曝光機(jī)/，專為微米級(jí)圖案制作而設(shè)計(jì)，旨在保障圖形轉(zhuǎn)移精度。設(shè)備采用紫外LED冷光源，結(jié)合雙非球面石英透鏡，可生成半角＜2°的平行光，相較傳統(tǒng)接觸式曝光機(jī)，其緊湊的體積將移形換影置于桌面之上，為操作提供了便利與精準(zhǔn)。

該光刻機(jī)廣泛適用于微流控芯片、MEMS器件、光電子器件以及聲表面波器件等制備領(lǐng)域。其性能尤其適合高校、科研院所以及企業(yè)展開(kāi)微細(xì)加工工藝研究。緊隨現(xiàn)代技術(shù)的步伐，桌面光刻機(jī)/曝光機(jī)的問(wèn)世為微納加工注入了新的活力，助力客戶在項(xiàng)目目標(biāo)的實(shí)現(xiàn)過(guò)程中邁向更高精度、更具創(chuàng)新性的階段。

2. 技術(shù)參數(shù)

2  曝光光源：紫外LED

2  光源波長(zhǎng)：365nm;

2  曝光面積：4英寸、6英寸可選；

2  曝光方式：?jiǎn)蚊娼佑|式定時(shí)曝光；

2  曝光分辨率：2um；

2  曝光強(qiáng)度：30~120mW/cm²可調(diào)；

2  曝光不均勻性：≤5%；

2  光源平行性：≤2°；

2  光源壽命：≥20000h；

2  電源輸入：AC220V±10V，50HZ

2  功率：250W

2  重量：約22kg

2  外形尺寸：382（長(zhǎng)）*371（寬）*435（高）

2  工作環(huán)境：溫度0℃-40 ℃，相對(duì)濕度＜80 %

3. 使用方法

接觸式曝光機(jī)操作簡(jiǎn)單，易于上手，具體操作如下：

一、曝光前準(zhǔn)備工作

1、硅片處理：確保待曝光硅片經(jīng)過(guò)勻膠處理，表面干凈平整，沒(méi)有明顯的污漬或破損。

2、選擇光刻板：根據(jù)項(xiàng)目需要，選擇合適尺寸的光刻板，本設(shè)備兼容4英寸、5英寸或6英寸。

3、設(shè)備檢查：仔細(xì)檢查設(shè)備，確保所有部件處于正常工作狀態(tài)，確保操作環(huán)境良好。

二、曝光操作步驟

1、安裝硅片：將待曝光硅片平放在設(shè)備的載臺(tái)上，確保位置準(zhǔn)確。

 （硅片放置載硅片槽內(nèi)）

2、放置光刻板：將光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平穩(wěn)。

3、設(shè)定曝光參數(shù)：使用控制面板設(shè)置曝光時(shí)間和強(qiáng)度，根據(jù)具體需求進(jìn)行調(diào)整。

4、啟動(dòng)曝光：確認(rèn)參數(shù)設(shè)定無(wú)誤后，點(diǎn)擊啟動(dòng)按鈕，設(shè)備將開(kāi)始進(jìn)行曝光。

5、監(jiān)控曝光過(guò)程：在曝光過(guò)程中，您可以通過(guò)設(shè)備界面監(jiān)控曝光進(jìn)度，確保一切順利進(jìn)行。

6、曝光完成：曝光結(jié)束后，設(shè)備會(huì)發(fā)出提示，取出硅片和光刻板。

4. 日常維護(hù)

1、定期清理平行曝光機(jī)的載臺(tái)，防止它們因積塵或灰塵而影響加工。

2、保持曝光機(jī)的表面清潔，防止灰塵和雜質(zhì)進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部。

5. 裝箱清單

1、桌面微型紫外光刻機(jī)主機(jī) 1臺(tái)

2、電源線 1根

3、高透4英寸玻璃 1片 （輔助菲林掩膜曝光使用）

4、用戶操作說(shuō)明書 1份

5、合格證 1份

6、保修卡 1份