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            產(chǎn)品展廳

            產(chǎn)品求購企業(yè)資訊會展

            發(fā)布詢價單

            化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學(xué)儀器及設(shè)備>光學(xué)測量儀>橢偏儀> SE-L光譜橢偏儀03090804

            SE-L光譜橢偏儀03090804

            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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            北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司—實驗室整體建設(shè)解決方案集成者:
            鴻瑞正達(dá)主要服務(wù)于高等院校、科研院所和研發(fā)企業(yè),專注于科研領(lǐng)域,助力科研成果轉(zhuǎn)化。公司提供材料研究成套設(shè)備及整套解決方案,包括:高壓科學(xué)材料、金屬材料、電池研發(fā)、地質(zhì)地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領(lǐng)域的科研成套設(shè)備。

            我們的服務(wù)理念是:讓科研更高效、便捷。

             

             

             

             

             

             

             

             

            實驗室設(shè)備,材料科學(xué),質(zhì)譜儀,電化學(xué),電池,催化

             

            img1

             

            產(chǎn)品簡介: SE-L 光譜橢偏儀是一款全自動高精度光譜橢偏儀,集眾多科技技術(shù),采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),配置全自動測量模塊。通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實現(xiàn)光學(xué)參數(shù)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析。SE-L 光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu):介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、 PZT 膜,激光二極管 GaN 和AlGaN、透明的電子器件、平板顯示、光伏太陽能、功能性涂料、生物和化學(xué)工程、塊狀材料分析等領(lǐng)域。

             

            產(chǎn)品型號

            SE-L 光譜橢偏儀

            主要特點

            1、高精度自動測量光學(xué)橢偏測量解決方案

             

            2、全自動變角、調(diào)焦等控制平臺,一鍵快速測量

             

            3、軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計,易上手、操作便捷

             

            4、豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫,保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力

             

            5、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍

            (193-2500nm)

             

            6、高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、 PCRSA 配置, 實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采

             

            7、全自動橢偏測量技術(shù),基于行業(yè)電機(jī)控制技術(shù),全自動調(diào)整測量角

             

            度,高精度控制樣件臺,實現(xiàn)樣件快速自動對準(zhǔn)找焦

             

            8、頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜

             

            9、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料

            技術(shù)參數(shù)

            1、自動化程度:自動變角

             

            2、應(yīng)用定位:自動型

             

            3、基本功能: Psi/Delta、N/C/S、R/T 等光譜

             

            4、分析光譜: 380-1000nm(可擴(kuò)至 193-2500nm)

             

            5、單次測量時間: 0.5-5s

             

            6、重復(fù)性測量精度: 0.01nm

             

            7、光斑大小: 大光斑 2-3mm,微光斑 200um

             

            8、入射角調(diào)節(jié)方式:自動變角

             

            9、入射角范圍: 45-90°

             

            10、找焦方式:自動找焦

             

            11、Mapping 行程: 支持 100x100mm(可選配)

             

            12、支持樣件尺寸:  200mm

            可選配置

            波段選擇

             

            V:380-1000nm

             

            UV:245-1000nm

             

            XN:210-1650nm

             

            DN+:193-2500nm

            角度選擇

             

            自動:45-90°

             

            其他選擇

             

            Mapping 選擇:100×100mm(供參考,按需定制)

             

            溫控臺:室溫一 600℃(供參考,按需定制)

            可選配件

            1

            溫控臺

            2

            Mapping 擴(kuò)展模塊

            3

            真空泵

            4

            透射吸附組件

             

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