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            VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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              沈陽科晶立足國內(nèi)市場實(shí)際情況,以提供Z為實(shí)用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價(jià)格定位卻僅僅是其幾分之一。性價(jià)比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

              沈陽科晶為了更好地服務(wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實(shí)驗(yàn)室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗(yàn)環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達(dá)上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

              沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實(shí)際行動(dòng)將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅(jiān)持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅(jiān)持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會(huì)成為市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會(huì)更加燦爛輝煌。

             

            我們擁有同類型中優(yōu)質(zhì)性價(jià)比的產(chǎn)品!                 

                  您正在為材料與設(shè)備無從下手而焦急嗎?

            歡迎來到沈陽科晶,我們是國內(nèi)實(shí)驗(yàn)室樣品制備設(shè)備領(lǐng)域的專家!

             

             

             

             

             

             

             

             

            切割機(jī),金剛石線切割機(jī),研磨拋光機(jī),提拉涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),真空鍍膜機(jī),管式爐,箱式爐,電池實(shí)驗(yàn)研究設(shè)備,清洗機(jī)

            產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
            應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

            IMG_256VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。雙靶磁控濺射儀配備有兩個(gè)靶槍和兩個(gè)電源,一個(gè)射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個(gè)直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
            IMG_2591、配置兩個(gè)靶槍,一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
            2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
            3、體積小,操作簡便。IMG_261

            產(chǎn)品名稱

            VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

            產(chǎn)品型號(hào)

            VTC-600-2HD-1000

            安裝條件

            本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
            1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)
            2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
            3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥
            4、工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
            5、通風(fēng)裝置:需要

            主要參數(shù)

            1、輸入電源:220V/50Hz
            2、濺射靶數(shù)量:2
            3、腔體內(nèi)徑:?300mm
            4、靶槍冷卻方式:水冷
            5、極限真空度:7.4E-5pa
            6、真空室規(guī)格:Φ300×330 mm
            7、真空系統(tǒng):VRD-16機(jī)械泵 FF-100/150渦輪分子泵
            8、恢復(fù)真空:系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min(系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣)
            9、充氣系統(tǒng):2路質(zhì)量流量計(jì)(1路氬氣100scc、2路氬氣200scc)特殊氣體可定制
            10、濺射靶規(guī)格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
            11、樣品臺(tái):Φ140mm/可旋轉(zhuǎn)(1~20rpm)/可加熱(室溫~1000℃)

            產(chǎn)品規(guī)格

            主機(jī)尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm


             




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