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            產(chǎn)品展廳

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            化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設(shè)備>其它薄膜沉積設(shè)備>MSP-300/400/5100/6200 磁控濺射鍍膜設(shè)備

            MSP-300/400/5100/6200 磁控濺射鍍膜設(shè)備

            具體成交價以合同協(xié)議為準
            • 公司名稱 北京中科復(fù)華科技有限公司
            • 品牌 其他品牌
            • 型號 MSP-300/400/5100/6200
            • 產(chǎn)地 北京
            • 廠商性質(zhì) 代理商
            • 更新時間 2024/4/7 9:13:44
            • 訪問次數(shù) 144
            產(chǎn)品標(biāo)簽

            磁控濺射

            聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


            北京中科復(fù)華科技有限公司是一家致力于為半導(dǎo)體領(lǐng)域和微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案,為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導(dǎo)體設(shè)備儀器和微納米科學(xué)儀器,擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的技術(shù)團隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務(wù)。   未來公司將不斷和引進在微納米科學(xué)領(lǐng)域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品,同時也與全國各所的大學(xué)、學(xué)院和科研院所建立了良好的合作關(guān)系,致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作, 為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務(wù)?!?/span>

            納米圖形發(fā)生器,離子束刻蝕/反應(yīng)離子刻蝕/感應(yīng)耦合等離子刻蝕 磁控濺射/氣相沉積/電子束蒸發(fā)鍍膜、ALD/MBE/MOCVD 光刻機、去膠設(shè)備等

            應(yīng)用方向:科研與教學(xué)

            產(chǎn)品優(yōu)勢:效率高+多功能;垂直濺射+傾斜共濺射

            產(chǎn)品配置:

            樣片數(shù)量及尺寸:6片Ф2英寸(垂直濺射)+ 1片Ф4英寸(共濺射)

            濺射材料:金屬;非金屬;化合物等薄膜材料。

            濺射腔體:高真空系統(tǒng)。

            濺射不均勻性:≤±3%-±5%

            磁控靶:2-4支;可調(diào)角度;可調(diào)距離

            濺射方向:樣品下置(自上而下濺射)或 樣品上置(自下而上濺射)

            加熱:常規(guī)加熱,可選高溫加熱

            電源配置:射頻;直流;直流脈沖;直流偏壓

            清洗功能:可選配考夫曼離子源

            快速反應(yīng)濺射功能:可選配Speedflo

            膜厚監(jiān)控功能:可選配晶控膜厚在線監(jiān)測與終點控制

            操作模式:全自動+半自動控制

            類似產(chǎn)品:MSP-300C;MSP-400B

            選型參考:樣品在下(MSP-300B);樣品在上(MSP-300BT);配置考夫曼離子源(MSP-300BI/MSP-300BTI)



            應(yīng)用方向:棒狀樣品批量生產(chǎn)

            產(chǎn)品優(yōu)勢:棒狀樣品側(cè)壁鍍膜,立式設(shè)備

            產(chǎn)品配置:

            樣片數(shù)量及尺寸:30-300根;Ф1mm~Ф30mm,L30mm~L200mm(依據(jù)靶尺寸和樣品尺寸定制)

            濺射材料:金屬;非金屬;化合物等薄膜材料。

            濺射腔體:高真空系統(tǒng)。

            濺射不均勻性:≤±5%-±8%

            磁控靶數(shù)量:2-4支矩形磁控靶 

            磁控靶安裝形式:立式安裝

            樣品夾具:公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)

            加熱:常規(guī)加熱 

            電源配置:射頻;直流 

            清洗功能:可選配離子源清洗、射頻清洗、反濺清洗模式

            快速反應(yīng)濺射功能:可選配Speedflo

            膜厚監(jiān)控功能:可選配晶控膜厚在線監(jiān)測與終點控制

            操作模式:全自動+半自動控制

            類似產(chǎn)品:片狀樣品批量鍍膜(MSP-5100C) 




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