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            產(chǎn)品展廳

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            ABN-450-S4 磁控濺射鍍膜

            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 公司名稱(chēng) 艾博納微納米科技(江蘇)有限責(zé)任公司
            • 品牌 ABNER/艾博納
            • 型號(hào) ABN-450-S4
            • 產(chǎn)地 江蘇省淮安市清江浦區(qū)清浦工業(yè)園枚皋路7號(hào)
            • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
            • 更新時(shí)間 2025/1/16 16:59:38
            • 訪問(wèn)次數(shù) 305
            產(chǎn)品標(biāo)簽

            鍍膜機(jī)熱蒸發(fā)鍍膜

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            艾博納微納米科技(江蘇)有限公司致力于科研器材的研發(fā)與生產(chǎn),以國(guó)際科研單位力量為支點(diǎn),凝聚社會(huì)力量共同謀求推動(dòng)全“人類(lèi)科學(xué)發(fā)展與進(jìn)步”。艾博納微納米科技(江蘇)有限公司創(chuàng)立于中國(guó)江蘇,用戶(hù)群體分布于世界各國(guó)以及國(guó)內(nèi)大陸大部分地區(qū)。公司主營(yíng)業(yè)務(wù)有物理科研器材、二維材料轉(zhuǎn)移裝置、二維材料微納加工設(shè)備、微納米光學(xué)系統(tǒng)包括遠(yuǎn)場(chǎng)以及近場(chǎng)全波段光學(xué)顯微系統(tǒng)研發(fā)、國(guó)產(chǎn)原子力顯微鏡、耗材(包含氮化硼國(guó)產(chǎn)高質(zhì)量生長(zhǎng)等各種晶體、硅片、超干凈藍(lán)膜膠帶等)、其他二維材料制備相關(guān)設(shè)備如等離子處理儀、顯像設(shè)備等。所有經(jīng)由我司售賣(mài)的產(chǎn)品均享受售后保障,用戶(hù)可放心購(gòu)買(mǎi)。

             

             

            探針臺(tái),二維材料轉(zhuǎn)移臺(tái),金相顯微鏡,步進(jìn)電機(jī),步進(jìn)電機(jī)控制器,原子力顯微鏡,拉曼光譜儀

            產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
            應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,能源,包裝/造紙/印刷,綜合

              磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點(diǎn):

              1.真空系統(tǒng)

              真空腔體由標(biāo)準(zhǔn)的304不銹鋼焊接而成,內(nèi)部形狀為長(zhǎng)方體,其尺寸為600mm*600mm*700mm,電解拋光處理,減少內(nèi)部材料放氣現(xiàn)象。真空腔體上安裝有電極,基片系統(tǒng),真空系統(tǒng),氣路系統(tǒng)等部件;真空腔體配備兩個(gè)可以打開(kāi)的門(mén),前門(mén)為移門(mén),通過(guò)與直線導(dǎo)軌,滑塊等裝置連接,可使前門(mén)左右開(kāi)啟與關(guān)閉,后期也可以連接手套箱,在手套箱內(nèi)部操作前門(mén)開(kāi)關(guān),確保整個(gè)工作環(huán)境處于氮?dú)饣蚨栊詺怏w氛圍中;后門(mén)旋轉(zhuǎn)門(mén),通過(guò)旋轉(zhuǎn)軸實(shí)現(xiàn)后門(mén)的開(kāi)關(guān),開(kāi)啟后腔體內(nèi)部暴露在空氣中,主要的目的為維護(hù)檢修,并配一個(gè)長(zhǎng)方形觀察窗,配合腔體外部照明燈,方便觀察腔體內(nèi)部狀況。腔體側(cè)面裝有抽氣主管道,分子泵,插板閥,真空計(jì),充氣閥,角閥等真空配件,在腔體潔凈,無(wú)污染的情況下,極限真空5*10-5pa,四十分鐘可達(dá)到大氣至5*10-4pa,系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后,真空度≤5Pa。該系統(tǒng)可以在不停分子泵的前提下,對(duì)腔體內(nèi)部材料添加、更換,也可以取放基片。

              2.樣品系統(tǒng)

              該設(shè)備的樣品架采用嵌入式結(jié)構(gòu),可搭載一片210mm*210mm基片,向下兼容,也可以搭載多片定制數(shù)量小基片;基片帶冷卻系統(tǒng);掩模版到基片距離小于0.1mm。

              樣品架通過(guò)旋轉(zhuǎn)軸,磁流體,聯(lián)軸器,電機(jī)等裝置連接,從而可實(shí)現(xiàn)0~30轉(zhuǎn)/分鐘。配備1套基片擋板系統(tǒng),可以根據(jù)實(shí)際工作需求開(kāi)啟與關(guān)閉。

              3.沉積系統(tǒng)

              該系統(tǒng)配備4組蒸發(fā)源,可對(duì)金屬,有機(jī),無(wú)機(jī)物等材料進(jìn)行蒸鍍,每組蒸發(fā)源均配備冷卻系統(tǒng),4組蒸發(fā)源按照R-D-matin-ME系列舟蒸發(fā)源設(shè)計(jì);源和源之間有隔板,防止交叉污染及隔絕一定溫度輻射。

              各個(gè)源均可通過(guò)繼電器切換與一臺(tái)可編程直流電源連接,電源設(shè)定為恒流模式,調(diào)節(jié)電流的大小來(lái)對(duì)蒸發(fā)源上的負(fù)載進(jìn)行加熱,(TDKGEN8-1801.5KW可編程直流電源,升溫溫度1500℃,精度0.1A)從而使得負(fù)載上的材料達(dá)到一定溫度后發(fā)生蒸發(fā)現(xiàn)象。通過(guò)膜厚儀上的數(shù)據(jù),可實(shí)時(shí)反饋出材料蒸發(fā)的速率(采用1臺(tái)InficonSQC-3102通道膜厚儀,厚度和速率分辨率±0.015?,速率顯示0.01?/s,可同時(shí)顯示2個(gè)膜厚探頭的讀數(shù)),沉積厚度等信息。也可以通過(guò)編輯膜厚儀程序,到達(dá)自動(dòng)蒸鍍的效果。

              4.控制系統(tǒng)

              磁控濺射鍍膜采用工控機(jī)控制系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)一鍵式抽真空,也可以在手動(dòng)模式下,控制機(jī)械泵、角閥、插板閥、分子泵的開(kāi)啟和停止,軟件中含有各個(gè)電氣設(shè)備的軟件互鎖和狀態(tài)反饋,確保不會(huì)因誤操作導(dǎo)致設(shè)備的損壞,還可以在手動(dòng)模式下,控制基片旋轉(zhuǎn),擋板開(kāi)關(guān),電極的切換等一系列操作。速率控制模式可以設(shè)定蒸發(fā)材料的速率值,與膜厚儀中探頭檢測(cè)的實(shí)際值比較,通過(guò)速率控制PID模塊調(diào)節(jié)加熱電源的輸出;通過(guò)膜厚儀與工控機(jī)串口通訊,將蒸發(fā)速率、蒸鍍膜厚和輸出功率一同在軟件中實(shí)時(shí)顯示,方便操作人員監(jiān)測(cè)實(shí)驗(yàn)過(guò)程;登陸軟件需要用戶(hù)名和密碼,不同的用戶(hù)名對(duì)應(yīng)不同的操作權(quán)限,確保操作人員不會(huì)誤操作到設(shè)備的參數(shù)設(shè)置

              





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