納米壓印膠正性/負(fù)性光刻膠顯影液去膠液

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 冠乾科技（上海）有限公司
品牌 冠乾科技
型號
產(chǎn)地
廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
更新時(shí)間 2024/7/30 8:50:47
訪問次數(shù) 320

產(chǎn)品標(biāo)簽

納米壓印膠正性光刻膠負(fù)性光刻膠顯影液去膠液

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公司介紹 主營產(chǎn)品

冠乾科技Grant Technology 有限公司創(chuàng)立于中國上海。公司為用戶提供先進(jìn)可靠的設(shè)備及、

儀器技術(shù)，為客戶把握工藝過程，得到優(yōu)質(zhì)的結(jié)果而服務(wù)。
Grant是“授予”的意思，希望公司能夠成為一個(gè)平臺，以用戶能夠得到上更新更快的技術(shù)資訊，技術(shù)方案為企業(yè)目標(biāo)。

冠乾科技追求品質(zhì)產(chǎn)品、專業(yè)的應(yīng)用和完善的售后服務(wù)，我們是您可以信賴的合作伙伴。

工藝設(shè)備：真空鍍膜機(jī)；離子束刻蝕機(jī)，ICP刻蝕機(jī)，等

產(chǎn)品線豐富，元素分析:原子吸收,氣相色譜，液相色譜，氣質(zhì)聯(lián)用，紫外分光光度計(jì)等；熱分析：材料表面分析：原子力顯微鏡，光學(xué)輪廓儀，摩擦磨損等；通用分析：掃描電鏡，

實(shí)驗(yàn)室儀器
原子吸收光譜儀
近紅外光譜儀
紫外分光光度計(jì)
電化學(xué)工作站
紅外光譜儀
鍍層測厚儀
數(shù)字顯微鏡
影像測量儀
Wafer 粗糙度檢測
3D 輪廓儀
超景深顯微鏡
TTV 測試
掃描探針顯微鏡
臺式掃描電鏡

其他儀器：
四探針測試
離子減薄機(jī)

展開

原子力顯微鏡，摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)，超景深顯微鏡，鍍膜機(jī)

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

供貨周期	一個(gè)月	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,綜合

Negative Photoresists

Positive Photoresists

Resist Removers

Resist Developers

Edge Bead Removers

Planarizing, Protective and Adhesive Coatings

Spin-On Glass Coatings

Spin-On Dopants

曝光	應(yīng)用	特性	對生產(chǎn)量的影響
i線曝光用粘度增強(qiáng)負(fù)膠系列	在設(shè)計(jì)制造中替代基于聚異戊二烯雙疊氮（Polyioprene-Bisazide）的負(fù)膠。	在濕刻和電鍍應(yīng)用時(shí)強(qiáng)大的粘附力；很容易用去膠液去除。單次旋涂厚度范圍如下：﹤0.1～200 μm可在i、g以及h-line波長曝光	避免了基于有機(jī)溶劑的顯影和沖洗過優(yōu)于傳統(tǒng)正膠的優(yōu)勢：控制表面形貌的優(yōu)異線寬任意甩膠厚度都可得到筆直的側(cè)壁單次旋涂即可獲得200 μm膠厚厚膠同樣可得到高清的分辨率 150 ℃軟烘烤的應(yīng)用可縮短烘烤時(shí)間優(yōu)異的感光度進(jìn)而增加曝光通量更快的顯影，100 μm的光刻膠顯影僅需6 ～ 8分鐘光刻膠曝光時(shí)不會(huì)出現(xiàn)氣泡可將一種顯影液同時(shí)應(yīng)用于負(fù)膠和正膠不必使用增粘劑如HMDS







g和h線曝光用粘度增強(qiáng)負(fù)膠系列