1.產(chǎn)品概述：

掩模的完整性對高標準光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標準。它是應對 193i 1x half-pitch DPT、紫外光刻 (EUVL) 和納米壓印光刻 (NIL)高要求的創(chuàng)新解決方案。以創(chuàng)新技術大限度地提高光掩模性能。

2.產(chǎn)品優(yōu)勢：

MaskTrack Pro 允許用第三方的產(chǎn)品擴展工具集群，并提供一個方法，在全控、高潔環(huán)境中存儲、處理和加工光掩模。模塊化設計確保其具有高度的靈活性并能高度適應客戶的要求。MaskTrack Pro 在次運行就能提供佳的清潔效果。

3.產(chǎn)品工藝：

物理清洗：

該系統(tǒng)為濕法清洗提供多種物理力技術，包括高可達3個的預清洗與終清洗腔室，用于剝離隔離、預清洗和終清洗工藝。

原位紫外表面處理與清洗技術

頻率高達4 MHz的高頻雙兆聲波清洗

精密的納米二元噴霧

聚焦點清洗

化學清洗：

DIW-H20脫氣，用于控制兆聲波工藝中的空化控制

超潔凈的冷/熱CO2-DI水

臭氧DI水和pH值穩(wěn)定的電解H2

超稀釋的SC1

用于進一步減少圖案損傷的堿基新介質(zhì)

15 nm工藝介質(zhì)過濾間