化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>制冷設(shè)備>冷水機/冷卻循環(huán)水機>ETCU-300W 工業(yè)級變頻冷水機組丨半導(dǎo)體封裝冷卻方案
ETCU-300W 工業(yè)級變頻冷水機組丨半導(dǎo)體封裝冷卻方案
| 參考價 | ￥ 167366 |
| 訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
- 品牌 冠亞恒溫
- 型號 ETCU-300W
- 產(chǎn)地 江蘇省無錫市錫山區(qū)翰林路55號
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/3/20 11:30:59
- 訪問次數(shù) 87
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制冷加熱循環(huán)器、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應(yīng)釜溫控系統(tǒng)、加熱循環(huán)器、低溫冷凍機、低溫制冷循環(huán)器、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱、低溫冷凍機、加熱制冷恒溫槽等設(shè)備
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-50萬 |
|---|---|---|---|
| 冷卻方式 | 水冷式 | 儀器種類 | 一體式 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣 |
工業(yè)級變頻冷水機組丨半導(dǎo)體封裝冷卻方案
工業(yè)級變頻冷水機組丨半導(dǎo)體封裝冷卻方案
在半導(dǎo)體制造和材料科學(xué)領(lǐng)域，化學(xué)氣相沉積（CVD）是一種廣泛應(yīng)用的工藝，用于在基材表面沉積薄膜。CVD工藝的成功在很大程度上依賴于溫度控制?；瘜W(xué)氣相沉積冷卻Chiller作為一種溫度控制設(shè)備，在CVD工藝中配套使用。
一、化學(xué)氣相沉積冷卻Chiller的工作原理
化學(xué)氣相沉積冷卻Chiller主要通過制冷劑循環(huán)系統(tǒng)來實現(xiàn)溫度控制。其核心部件包括壓縮機、冷凝器、蒸發(fā)器和膨脹閥。制冷劑在壓縮機中被壓縮成高溫高壓氣體，隨后通過冷凝器冷卻并液化成高壓液體。液態(tài)制冷劑經(jīng)過膨脹閥降壓后進入蒸發(fā)器，吸收熱量并蒸發(fā)成低溫低壓氣體，再次進入壓縮機，完成一個循環(huán)。
二、技術(shù)特點
1、化學(xué)氣相沉積冷卻Chiller能夠?qū)崿F(xiàn)控溫精度，滿足CVD工藝對溫度的嚴格要求。
2、采用變頻調(diào)節(jié)技術(shù)，Chiller可以根據(jù)實際需求自動調(diào)節(jié)制冷量和流量，提高能效比。
3、Chiller配備了100%氫檢測和發(fā)熱檢測功能，確保設(shè)備運行。此外，設(shè)備經(jīng)過24小時連續(xù)運行測試，保證其可靠性。
4、Chiller支持RS485接口Modbus RTU協(xié)議和以太網(wǎng)接口TCP/IP協(xié)議，方便遠程控制和數(shù)據(jù)導(dǎo)出。
三、應(yīng)用領(lǐng)域
1、在CVD設(shè)備中，Chiller用于控制反應(yīng)室的溫度，確保薄膜沉積的均勻性和一致性。
2、在半導(dǎo)體制造設(shè)備中，Chiller用于控制設(shè)備的溫度，確保設(shè)備的穩(wěn)定性和性能。
3、在制造設(shè)備中，Chiller用于控制設(shè)備的溫度，確保設(shè)備的穩(wěn)定性和性能。
四、未來發(fā)展趨勢
隨著半導(dǎo)體技術(shù)和材料科學(xué)的不斷進步，對溫度控制的要求也越來越高。未來，化學(xué)氣相沉積冷卻Chiller將朝著更高精度和更智能化的方向發(fā)展。例如，采用更制冷劑和換熱技術(shù)，進一步提高制冷效率和控溫精度；集成更多的傳感器和智能控制算法，實現(xiàn)設(shè)備的自適應(yīng)控制和故障預(yù)測。
化學(xué)氣相沉積冷卻Chiller憑借其的溫控能力、制冷性能和可靠的保障，已成為CVD工藝中的設(shè)備。隨著技術(shù)的不斷進步，Chiller將在更多領(lǐng)域發(fā)揮其作用推動發(fā)展。
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