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2023
04-122023
04-12基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究(結(jié)果與討論)
3結(jié)果與討論3.1顯影時(shí)間影響經(jīng)過無掩模光刻機(jī)曝光后,目標(biāo)圖案已轉(zhuǎn)移至ITO玻璃上。將ITO玻璃放置于加熱板上進(jìn)行加熱,烘除光刻膠中的殘留溶劑、水分,使光刻膠與ITO玻璃結(jié)合更加緊密,此時(shí),經(jīng)過曝光的...2023
04-12基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究(引言+實(shí)驗(yàn))
1引言ITO(indiumtinoxide)又稱氧化銦錫,是一種銦錫金屬氧化物,因其具有光學(xué)透明性[1]、高導(dǎo)電性[2]、易加工性[3]及柔性潛力[4]等優(yōu)點(diǎn),目前在光電檢測、生物芯片及微納器件等領(lǐng)域...2023
04-102023
03-142023
03-08可以讓產(chǎn)品變性的機(jī)器,等離子清洗機(jī)?
等離子清洗是等離子表面改性的其中較為常見的一種方式。等離子清洗的作用主要是:(1)對材料表面的刻蝕作用--物理作用等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子,作用到固體樣品表面,不但清除了...2023
02-20EVG突破用于半導(dǎo)體高/級封裝的掩模對準(zhǔn)光刻技術(shù)中的速度和精度障礙
面向MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場的晶圓鍵合和光刻設(shè)備的LINGXIAN供應(yīng)商EVGroup(EVG)近日推出了IQAlignerNT,它是針對大批量先進(jìn)封裝應(yīng)用的新的,先進(jìn)的自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)。新型I...2023
02-202023
02-20【EVG新品發(fā)布】NT系列大幅度提高光刻對準(zhǔn)和測試精度
在微電子、納米、半導(dǎo)體領(lǐng)域?yàn)榫雍虾凸饪碳夹g(shù)提供設(shè)備技術(shù)方案的供應(yīng)商EVG近期推出了NT系列光刻機(jī)和對準(zhǔn)測試機(jī),這是一個全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗(yàn)證過的新型光刻曝光機(jī)以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和...2023
02-202023
06-08光學(xué)光刻技術(shù)(Optical lithography)
1.簡介光學(xué)光刻(Opticallithography),也稱為光學(xué)平版印刷術(shù)或紫外光刻,是在其他處理步驟(例如沉積,蝕刻,摻雜)之前用光刻膠對掩模和樣品進(jìn)行構(gòu)圖的方法。2.設(shè)備(接近式光刻機(jī))2.1...2023
02-162023
02-14光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜產(chǎn)品的測量
光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng),可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及nk,采用r-θ極坐標(biāo)移動平臺,可以在幾秒鐘的時(shí)間內(nèi)快速的定位所需測試的點(diǎn)并測試厚度,可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式,...2023
01-112023
01-102023
01-102022
12-142022
11-252022
11-252023
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