目錄:孚光精儀（中國）有限公司>>光學測量系列>>光學薄膜測量>> FRANG-SR100光學薄膜測厚儀
光學薄膜測厚儀是采用光譜反射計SR技術的反射光譜膜厚儀,測量薄膜反射光譜,測量薄膜厚度和測量薄膜折射率等參數(shù)，非常適合日常已知膜系膜堆測量。
這款光學薄膜測厚儀具有較長工作距離，工作距離可調，超大樣品臺，可選光源等特點。
光學模板測厚儀特點
易于安裝
軟件基于Windows系統(tǒng)，方便使用
**光學設計，良*系統(tǒng)表現(xiàn)
陣列光譜探測器保證快速測量
測量薄膜厚度和折射率高達5層
可測量反射，透射和吸收光譜
可用于實時在線的薄膜厚度和折射率測量
具有齊全的材料光譜舍數(shù)據(jù)庫
可升級到顯微分光光度計
適合不同襯底和不同薄膜厚度測量
光學薄膜測厚儀規(guī)格參數(shù)
型號 | SR100 | SR300 | SR400 | SR450 | SR500 | SR600 |
探測器類型 | CCD或CMOS陣列 | CCD或CMOS陣列 | InGaAs陣列 | CCD或CMOS和InGaAs 陣列 | CCD或CMOS和InGaAs 陣列 | InGaAs陣列 |
波長范圍 (nm) | 190-1100 | 370-1100 | 950-1700 | 370-1700 | 190-1700 | 1000-2500 |
波長分辨率 | 0.01 -3nm | 0.01 -3nm | 3 to 6nm | 0.01 to 3nm | 0.01 to 3nm | 3 to 6nm |
厚度測量范圍 | 5nm-50 µm | 20nm-1000µm | 100nm-300µm | 20nm-200µm | 5nm-200µm | 20nm-300µm |
厚度測量精度 | < 1? (1 sigma from 50 thickness readings for 1500? Thermal SiO2 on Si Wafer) | |||||
厚度精度 | better than 0.5% (comparing with ellipsometry results for Thermal Oxide sample by using the same optical constants) | |||||
反射探頭光譜范圍 | DUV-Vis | Vis-NIR | NIR | VIS-NIR | DUV-Vis-NIR | NIR |
樣品臺 | 黑色陽極氧化鋁合金，樣品高度可輕松調節(jié)，尺寸為200mmx200mm | |||||
工作距離 | ~ 25mm (從樣品表面計算) | |||||
測量時間 | 0.1ms-10s,可設置定義 | |||||
用戶可設置定義 | 波長范圍、波長點、積分時間、光譜平均數(shù)、平滑因子 | |||||
接口 | USB | |||||
計算機操作系統(tǒng)要求 | Both 32bit and 64 Bit, Win XP, 7, 8, 10 | |||||
計算機***低配置 | P3 above with minimum 150 MB space, 2GB RAM; CD-ROM; at least 2 USB ports | |||||
供電要求 | 110– 240 VAC /50-60Hz, 1.5 A | |||||
光源 | Deuterium + Tungsten Halogen | Tungsten Halogen | Tungsten Halogen | Tungsten Halogen | Deuterium + Tungsten Halogen | Tungsten Halogen |
光源強度 | Adjustable | Adjustable | Adjustable | Adjustable | Adjustable | Adjustable |
燈泡壽命 | 4000 hrs. | 10000 hrs. | 10000 hrs. | 10000 hrs. | 4000 hrs. | 10000 hrs. |
光學薄膜測厚儀典型應用
半導體制造
液晶顯示屏測量
刑偵
生物膜測量
礦石地質分析
制藥醫(yī)學分析
光學鍍膜測量
功能薄膜MEMS測量
太陽能電池薄膜測量
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