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            安東帕(上海)商貿有限公...

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            超組合——AFM和GISAXS表征多孔薄膜

            閱讀:673      發(fā)布時間:2019-8-15
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            超組合——AFMGISAXS表征多孔薄膜

            在這個世界上個體的力量是有限的,

             

            80/90的小伙伴們都知道,

             

            在龍珠里

             

            悟空和貝吉塔的合體

             

             

            才是燃時刻

             

            才能打敗強大的敵人!

             

            做實驗也是一樣的道理哦!

             

            使用Tosca 400SAXSpoint 2.0系統

             

            來表征垂直基底的多孔結構聚合物薄膜。

             

            掠入射小角X射線散射(GISAXS

             

            是一種用于分析納米尺度表面結構

             

            高度靈敏的測量方法

             

            給出一個大樣品面積上的平均信息。

             

            原子力顯微鏡(AFM)能提供

             

            局部表面結構的高空間分辨率的直接可視信息。

             

            這使得兩種方法在納米結構表面表征上互補。

             

            Anton Paar –讓膜研究更易進行

             

            納米孔膜具有高超的潛力

             

            如:現代電池和能量轉換應用,以及水處理領域。

             

            這類樣品的孔隙結構的表征

             

            對它的性能是極其重要的。

             

            這里我們展示的是對厚度為100 nm

             

            垂直硅基底的多孔高分子膜的表征。

             

             

             Tosca 400  高度自動化工業(yè)AFM提供的圖片分辨率和高樣品通量。

             

             

            SAXSpoint 2.0  多用途點準直SAXS儀器,提供高分辨率和光通量,使得它成為膜研究的工具。

             

             

             

             

            Fig. 1: 納米多孔PE/PEG薄膜水平方向一維切面的二維GISAXS圖樣(左)和AFM形貌圖(右)。

             

            左邊的圖是用SAXSpoint 2.0系統研究結構的GISAXS圖樣。從反射圖上計算得到孔-孔間距大約50 nm。從相應的反射位置(見插圖)看,孔的六方排布可見。

             

            右邊的圖顯示的是相應的AFM形貌圖,使用Anton Paar新的AFM Tosca 400獲得。它證實了孔是六方排布,周期性50 nm和平均孔直徑為20 nm。

            超組合——AFMGISAXS表征多孔薄膜

            在這個世界上個體的力量是有限的,

             

            80/90的小伙伴們都知道,

             

            在龍珠里

             

            悟空和貝吉塔的合體

             

             

            才是燃時刻

             

            才能打敗強大的敵人!

             

            做實驗也是一樣的道理哦!

             

            使用Tosca 400SAXSpoint 2.0系統

             

            來表征垂直基底的多孔結構聚合物薄膜。

             

            掠入射小角X射線散射(GISAXS

             

            是一種用于分析納米尺度表面結構

             

            高度靈敏的測量方法

             

            給出一個大樣品面積上的平均信息。

             

            原子力顯微鏡(AFM)能提供

             

            局部表面結構的高空間分辨率的直接可視信息。

             

            這使得兩種方法在納米結構表面表征上互補。

             

            Anton Paar –讓膜研究更易進行

             

            納米孔膜具有高超的潛力

             

            如:現代電池和能量轉換應用,以及水處理領域。

             

            這類樣品的孔隙結構的表征

             

            對它的性能是極其重要的。

             

            這里我們展示的是對厚度為100 nm

             

            垂直硅基底的多孔高分子膜的表征。

             

             

             Tosca 400  高度自動化工業(yè)AFM提供的圖片分辨率和高樣品通量。

             

             

            SAXSpoint 2.0  多用途點準直SAXS儀器,提供高分辨率和光通量,使得它成為膜研究的工具。

             

             

             

             

            Fig. 1: 納米多孔PE/PEG薄膜水平方向一維切面的二維GISAXS圖樣(左)和AFM形貌圖(右)。

             

            左邊的圖是用SAXSpoint 2.0系統研究結構的GISAXS圖樣。從反射圖上計算得到孔-孔間距大約50 nm。從相應的反射位置(見插圖)看,孔的六方排布可見。

             

            右邊的圖顯示的是相應的AFM形貌圖,使用Anton Paar新的AFM Tosca 400獲得。它證實了孔是六方排布,周期性50 nm和平均孔直徑為20 nm。

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