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產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	價格區(qū)間	面議
容量大小	2L	應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

濺射蒸碳儀 掃描電鏡實驗室樣品制備蒸發(fā)儀 濺射蒸碳分析儀

型號:HG19-ETD-2000C

是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的，可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。

滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實驗電極制作。

特點：

增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。

配置參數(shù)：

- 儀器尺寸： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）

- 真空樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）

- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）

- 樣品臺： 50mm (D)

- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar

- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)

- 濺射電流： 0-50mA

- 濺射定時： 1-9999S

- 蒸碳電流 0-10A(AC)

- 真空泵： 4升兩級機械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）

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