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            2單靶直流磁控濺射儀--VTC-16-SM
            • 2單靶直流磁控濺射儀--VTC-16-SM

            貨物所在地:安徽合肥市

            更新時(shí)間:2025-04-07 21:00:08

            瀏覽次數(shù):357

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            VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀,包含一個(gè)2英寸水冷靶頭和可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),外形小巧,性價(jià)比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備,可選配各種金屬靶材和真空泵。

            VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀,包含一個(gè)2英寸水冷靶頭和可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),外形小巧,性價(jià)比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備,可選配各種金屬靶材和真空泵。

            用直流磁控濺射儀可獲得單相Al

            技術(shù)參數(shù)

            輸入電壓

            AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz

            輸入功率

            < 2000W 

            輸出功率

            • 電壓:1600VDC
            • zui大電流:150mA 

            腔體

            石英腔體:167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height


            濺射頭和樣品臺(tái)

            • 2英寸帶水冷磁控濺射頭
            • 一個(gè)直徑50mm不銹鋼樣品臺(tái),樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)速率0 - 5 RPM 
            • 配有一手動(dòng)操作的擋板,包含靶頭支撐架

            • 樣品臺(tái)和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)范圍:60-100mm

                   (點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料)

            控制面板

            6" PLC集成觸摸屏控制面板,可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度


            附件(可選)

            • 雙極旋片真空泵VRD-8,KF25接口

            • KF25不銹鋼波紋管

            • 10L/min 循環(huán)水冷機(jī)冷卻磁控靶頭  
                

            氣氛

            含一個(gè)控制進(jìn)氣的針閥和一個(gè)放氣閥


            靶材

            • 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm
            • 適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金屬,可選購(gòu)

            可選配件

            • 膜厚監(jiān)測(cè)儀
            • 分子泵,可獲得高真空, >10E-5 torr
            • 為獲得的薄膜強(qiáng)度,建議鍍膜前用等離子清洗機(jī)對(duì)基片進(jìn)行清洗。
            • 500度樣品加熱臺(tái)         
                  


            體積

                
              ( L 440mm×W 330mm × H 290mm 

            凈重

            20 kg ( not included pump )

            質(zhì)保和證書

            • 一年質(zhì)保,終生維護(hù)
            • CE認(rèn)證

            磁控濺射鍍膜知識(shí)

            與客戶分享的磁控濺射鍍膜技術(shù),請(qǐng)點(diǎn)擊文章鏈接Plasma Sputter Coating.  

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