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            QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易(北京)有限公司

            當(dāng)前位置:QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易(北京)有限公司>>材料制備/樣品合成>>薄膜、顆粒、膠體等制備>>PLD脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)

            脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)

            參   考   價:面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

            產(chǎn)品型號:PLD

            品       牌:其他品牌

            廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

            所  在  地:國外

            更新時間:2025-04-10 20:39:47瀏覽次數(shù):3788

            聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
            產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價格區(qū)間 200萬-400萬
            應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電子/電池,電氣,綜合
            脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)(NEW)等由美國BlueWave生產(chǎn),可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、反應(yīng)濺射、熱絲化學(xué)氣相沉積(HFCVD)、熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)等設(shè)備。
            薄膜制備*

             

            BlueWave是家著名的美國半導(dǎo)體設(shè)備、材料生產(chǎn)商。BlueWave提供多種薄膜制備系統(tǒng),包括脈沖激光沉積(PLD)、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、反應(yīng)濺射、熱絲化學(xué)氣相沉積(HFCVD)、熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)。這些系統(tǒng)是理想的薄膜與涂層合成設(shè)備??芍苽涞谋∧ぐǖ铩⒀趸?、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件,例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外,BlueWave還為您提供標(biāo)準(zhǔn)的薄膜以及材料涂層,例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。

             

            1、脈沖激光沉積系統(tǒng)

             

             

            產(chǎn)品點:

             

            電拋光多空不銹鋼超高真空腔體

            •可集成熱蒸發(fā)源或濺射源

            •可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺

            •流量計或針閥準(zhǔn)確控制氣體流量

            •標(biāo)準(zhǔn)真空計

            •干泵與渦輪真空泵

            •可選配不銹鋼快速進(jìn)樣室

            •可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng)

            •是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的設(shè)備

             

            2、物理氣相沉積系統(tǒng)(Physical Vapor Deposition Plus)

             

            產(chǎn)品點
            超高真空不銹鋼腔體

            電子束、熱蒸發(fā)、脈沖激光沉積可集成

            立襯底加熱,可旋轉(zhuǎn)

            多量程氣體流量控制器

            標(biāo)準(zhǔn)氣壓計

            機(jī)械、分子、冷凝真空泵
            可選不銹鋼快速進(jìn)樣室

            襯底和源距離可控

            可用于金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

             

            3、熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)

             

             

            •高溫石英管反應(yīng)器設(shè)計

            •溫度范圍:室溫到1100度

            •多路氣體準(zhǔn)確控制

            •標(biāo)準(zhǔn)氣壓計

            •易于操作

             

             

             

             

            •可配機(jī)械泵實現(xiàn)低壓TCVD

            •可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

            •液體前驅(qū)體噴頭

            •2英寸超大*溫度均勻區(qū)

             

            4、熱絲化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(HFCVD)

             

            產(chǎn)品點:

            •水冷不銹鋼超高真空腔

            •熱絲易安裝、更換 

            •4個不同量程氣體控制器

            •標(biāo)準(zhǔn)氣壓計

            •襯底與熱絲距離可調(diào)節(jié)

            •2英寸襯底加熱、可旋轉(zhuǎn) 

            •*制備金剛石和石墨烯 

             

            新產(chǎn)品?上線網(wǎng)頁更新中,垂詢了解更多詳情!

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            Moorfield Nanotechnology是

            PVD薄膜制備

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