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            QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易(北京)有限公司

            超高溫高速退火爐

            參   考   價(jià):面議
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

            產(chǎn)品型號(hào):HT-RTA59HD

            品       牌:其他品牌

            廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

            所  在  地:國(guó)外

            更新時(shí)間:2025-04-10 20:44:01瀏覽次數(shù):2375

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            產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
            儀器種類(lèi) 管式爐 最高溫度 1800℃
            日本 ADVANCE RIKO公司的桌面式超高溫高速退火爐以大功率點(diǎn)聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃,對(duì)SiC以及其它高熔點(diǎn)材料進(jìn)行退火處理。

             

            超高溫高速退火爐

             

                                         ——在10s 內(nèi)將15mm×15mm 的試樣加熱到1800℃

             

            型號(hào):HT-RTA59HD 

              

            產(chǎn)品介紹

                這款桌面式超高溫高速退火爐以大功率點(diǎn)聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃,對(duì)SiC以及其它高熔點(diǎn)材料進(jìn)行退火處理。

             

            應(yīng)用

            • SiC氧化膜的生成和激活;
            • 半導(dǎo)體開(kāi)發(fā)與研究;
            • 玻璃基板、陶瓷、復(fù)合材料等的熱處理;
            • 作為熱處理爐對(duì)高熔點(diǎn)材料進(jìn)行熱處理;
            • 陶瓷材料的熱沖擊測(cè)試。 

             

            點(diǎn)

            可以在10s內(nèi)加熱到超高溫1800℃;
            可以加熱后直接水淬;
            紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成;
            緊湊的桌面型設(shè)計(jì);
            通過(guò)USB與電腦連接,輸入溫度參數(shù);
            在加熱過(guò)程中,在電腦屏幕顯示溫度。

             

             帶水淬的型號(hào):CAS-59AQ

             

            設(shè)備參數(shù)

             

            溫度范圍室溫-1800℃
            樣品尺寸W15mm×L15mm×T1mm
            樣品支架氧化鋁或者高純碳
            加熱氛圍多種
            熱電偶JIS B φ0.3 (W-Re可選) 

             

            設(shè)備結(jié)構(gòu)以及樣品支架

             


             

             

            激光加熱基座晶體生長(zhǎng)爐

            激光加熱基座晶體生長(zhǎng)爐(LHPG)具有無(wú)坩堝、無(wú)污

            微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

            微波等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)(MPCVD)制造的微波

            高壓氧氣氛退火爐

            德國(guó)SciDre公司推出的高壓氧氣氛退火爐溫度可達(dá)

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