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            力森諾科科學(xué)儀器（上海）有限公司
            
		
		
            
			
		
		
            
	
            



            
    	
    	
            
		
		
            
			TECHNOLOGY
			
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            溫度對(duì)洗脫時(shí)間的影響 (SI-36 4D)
            
			
            
				時(shí)間：2025-1-10
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					  此色譜柱請(qǐng)配合使用抑制器法離子色譜系統(tǒng)。
            下圖是使用陰離子分析用色譜柱IC SI-36 4D分析各陰離子，分析溫度和洗脫時(shí)間的關(guān)系。溫度對(duì)于洗脫時(shí)間的影響每種離子各不相同。溫度越高，硫酸根離子的洗脫速度越慢；在40 ℃或更高溫度下，硫酸根離子和溴離子的洗脫位置互換。由于碳酸鹽峰的位置也會(huì)變化，因此當(dāng)洗脫液為25 mM氫氧化鉀水溶液時(shí)，建議使用30 ℃。
            Sample: 25 μL
                  
            1. 1.F- 0.5 mg/L
              2.     
            2. 2.Cl- 3 mg/L
              3.     
            3. 3.NO2- 5 mg/L
              4.     
            4. 4.SO42- 10 mg/L
              5.     
            5. 5.Br- 10 mg/L
              6.     
            6. 6.NO3- 10 mg/L
              7.     
            7. 7.PO33- 20 mg/L

            Column：Shodex SI-36 4D (4.0 mm I.D. x 150 mm)
            Eluent：25 mM KOH aq.
            (Eluent source : DionexTM EGC 500 KOH)
            Flow rate：0.7 mL/min
            Detector：Suppressed conductivity
            Column temp.：30. 35, 40, 45, 50 ℃
            
				
            
				
		
            
	
            

            


        
        




    

    

    

	 
    
    				
			 
    
    

    

     
      
     
	 

 		 


            
	
            
		
            
			
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