脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕，是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。
發(fā)展歷程：
脈沖激光沉積的發(fā)展與探究，處處受制。事實上，當時的激光科技還未成熟，可以得到的激光種類有限；輸出的激光既不穩(wěn)定，重復頻率亦太低，使任何實際的膜生成過程均不能付諸實行。因此，PLD在薄膜制作的發(fā)展比其它技術落后。以分子束外延（MBE）為例，制造出來的薄膜質素就優(yōu)良得多。
往后十年，由于激光科技的急速發(fā)展，提升了PLD的競爭能力。與早前的紅寶石激光器相比，當時的激光有較高的重復頻率，使薄膜制作得以實現(xiàn)。隨后，可靠的電子Q開關激光（electronicQ-switcheslasers）面世，能夠產生極短的激光脈沖。因此，PLD能夠用來做到將靶一致蒸發(fā)，并沉積出化學計量薄膜。由于紫外線輻射，薄膜受吸收的深度較淺。之后發(fā)展出來的高效諧波激光器（harmonicgenerator）與激基分子激光器（excimer）甚至可產生出強烈的紫外線輻射。自此以后，以非熱能激光熔化靶物質變得極為有效。
主要優(yōu)點
1.易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性；
2.沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；
3.工藝參數(shù)任意調節(jié)，對靶材的種類沒有限制；
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5.便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。
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