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在使用光化學(xué)反應(yīng)儀裝置時(shí)該注意的事項(xiàng)
閱讀：1764 發(fā)布時(shí)間：2016-12-27
光化學(xué)反應(yīng)儀的損壞，常常伴隨著很多原因，其都有哪些因素，基本有一下幾點(diǎn)原因：
1)靜電穿刺
光化學(xué)反應(yīng)儀內(nèi)攪拌帶有懸浮物的液體，懸浮物與反應(yīng)劇烈的磨擦，還懸浮物自身也發(fā)作磨擦，多么就發(fā)作很多的靜電荷，高的靜電荷對(duì)反應(yīng)發(fā)作劇烈的穿刺效果，然后招致反應(yīng)點(diǎn)蝕，因此攪拌轉(zhuǎn)速不宜太快。
2)機(jī)械損壞
光化學(xué)反應(yīng)儀抗沖擊力非常差，任何金屬、硬物對(duì)其停止撞擊均會(huì)招致反應(yīng)破損。因此光化學(xué)反應(yīng)儀運(yùn)用進(jìn)程中謹(jǐn)防任何金屬、硬物失落進(jìn)釜內(nèi)，如遇堵料，必需用塑料棒疏浚，檢修時(shí)蓋好鍋蓋，謹(jǐn)防焊渣凝結(jié)瓷面呈現(xiàn)小坑或爆瓷。
3)析氫腐蝕
光化學(xué)反應(yīng)儀的夾套在運(yùn)用一段時(shí)間后會(huì)結(jié)垢和生銹，假設(shè)運(yùn)用酸性除垢劑肅清污垢或夾套中的冷卻液偏酸性，都邑招致金屬發(fā)作析氫腐蝕 (Fe+2HCI=FeC12+H2O一部分H原子分散到金屬內(nèi)空穴，連系成}b，這些H：由于反應(yīng)的致密性而不克不及再向外分散，因此當(dāng)Hz聚積到必然的程度，構(gòu)成定的動(dòng)力時(shí)，反應(yīng)就會(huì)發(fā)作分裂。
4)加工應(yīng)力損壞
在釜體加工進(jìn)程中，由于卷筒、沖壓、焊接發(fā)作很多的內(nèi)應(yīng)力，這些應(yīng)力在反應(yīng)前應(yīng)*消弭，如消弭不*會(huì)招致反應(yīng)爆瓷。這種損壞常常發(fā)作在投入運(yùn)用后的頭三個(gè)月。所以對(duì)胚體停止熱處置或時(shí)效處置能防止爆瓷。
光化學(xué)反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品，測(cè)定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù)，測(cè)定量子產(chǎn)率等功能，廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。