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HI84100二氧化硫滴定儀
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HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。
HI84100特點：
• 基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體
• 性能優(yōu)良操作簡單，可直接顯示測量結(jié)果
• 人性化設計，具有穩(wěn)定標識和校準信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
HI84100技術(shù)參數(shù)：
型號 | HI 84100 |
滴定范圍 | 0 to 400 ppm of SO2 |
滴定方法 | 等電位氧化還原滴定法 |
滴定精度 | 讀數(shù)的5% |
取樣量 | 50 mL |
ORP電極 | HI 3148B |
供電方式 | 220V/60 Hz；10VA |
使用環(huán)境 | 0 to 50°C （32 to 122°F）；RH max 95% |
尺寸重量 | 208 × 214 × 163 mm；2200 g |
HI84100標準配置：
食品行業(yè)二氧化硫滴定分析測定儀，HI3148B電極，滴定試劑，相關(guān)附件，中英文手冊
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