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            目錄:北京慧龍環(huán)科環(huán)境儀器有限公司>>實驗室儀器>>東莞科橋>> KQ-200KDE型科橋超聲波清洗

            科橋超聲波清洗
            • 科橋超聲波清洗
            參考價 面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            參考價 面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 品牌 東莞科橋
            • 型號 KQ-200KDE型
            • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
            • 所在地 北京市
            屬性

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            >

            更新時間:2024-10-21 14:28:38瀏覽次數(shù):183評價

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            產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 超聲功率 40-100W
            超聲頻率 40KHZ 功率是否可調(diào) 可調(diào)℃
            價格區(qū)間 面議 降音蓋
            進(jìn)排水 手動 容積 4.5L
            時間是否可調(diào) 可調(diào)min 溫度是否可調(diào) 可調(diào)
            儀器種類 通用型 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,農(nóng)林牧漁,紡織/印染,汽車及零部件,綜合
            科橋超聲波清洗性能特點:

            1.能快速、清除工件表面上的各種污垢。
            2.能清洗帶有空腔、溝槽等形狀復(fù)雜的精密零件。
            3.對工件表面無損。
            4.可采用各種清洗劑。
            5.在室溫或適當(dāng)加溫即可進(jìn)行清洗。
            6.整機(jī)一體化結(jié)構(gòu)便于移動。
            7.節(jié)省溶劑、清洗紙、能源、工作場地和人工等。

            科橋超聲波清洗主要技術(shù)參數(shù):

            01.儀器外形尺寸:320×170×340(mm)

            02.清洗槽內(nèi)尺寸:300×150×100(mm)

            03.容量:4.5(L)

            04.超聲頻率:40(KHz)

            05.超聲功率:200(W)

            06.功率可調(diào):5-100(%)

            07.加熱功率:400(W)

            08.溫度可調(diào):室溫-80℃

            09.時間可調(diào):1-100/連續(xù)(Min)

            10.網(wǎng)架:有

            11.排水:有

            12.排水管:有

            13.降音蓋:有

            14.數(shù)顯設(shè)定記憶超聲功率、時間和溫度

            15.數(shù)顯儀器感應(yīng)溫度

            16.儀器同一界面數(shù)顯溫度、時間

            17.儀器內(nèi)外殼體采用SUS304拉絲板

            18.電源:220V、50Hz

            配置:不銹鋼網(wǎng)籃、降音蓋、電源線

            科橋超聲波清洗

            產(chǎn)品應(yīng)用:

            化學(xué)、生物行業(yè):試驗玻璃器皿的清洗、除垢,實驗中脫氣、混勻、分散、細(xì)胞粉碎、提取、乳化、消泡、置換、萃取等

            醫(yī)療行業(yè):醫(yī)療器械、醫(yī)用材料的消毒之前的全面清洗;醫(yī)療試驗器皿的清洗等。

            實驗材料、實驗器械:如吸管和器皿的清洗;層析、HPLC前的脫氣處理。

            中草藥、煙草、農(nóng)藥、瘦肉精、地溝油等有效成分的萃取。

            儀器儀表行業(yè):精密零件的高清潔度裝配前的清洗等。

            電子行業(yè):印刷線路板除松香、焊斑;高壓觸點等機(jī)械電子零件

            半導(dǎo)體行業(yè):半導(dǎo)體晶片的高度潔度清洗


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