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            OS5p+便攜式葉綠素?zé)晒鈨x用于棉花高溫脅迫監(jiān)測(cè)

            閱讀:1813      發(fā)布時(shí)間:2023-4-19
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            近日,我司工程師在新疆農(nóng)三師農(nóng)科所完成了OS5p+便攜式葉綠素?zé)晒鈨x的安裝培訓(xùn), 主要用于協(xié)助監(jiān)測(cè)高溫脅迫對(duì)棉花生長(zhǎng)的影響。研究作物高溫傷害及其生理生化基礎(chǔ),將有助于采取相應(yīng)措施減輕高溫危害,并為篩選抗高溫基因型提供有效的途徑。選育抗高溫品種并輔以配套技術(shù)措施,對(duì)抵御高溫逆境尤為重要。

            image.png               image.png  1:                                                       

                                                                                 現(xiàn)場(chǎng)安裝圖片

            葉綠素?zé)晒庾鳛樽魑锏墓夂咸匦詤?shù)可以直觀快速的反應(yīng)其高溫抗性,其中:

            (1) 最大光化學(xué)效率Fv/Fm對(duì)45o C以上高溫比較敏感。(Haldiman P,&Feller U.   

            2004)(Schreiber U. 2004),(Baker and Rosenqvist 2004)(Crafts-Brander and Law 2000)。

                                                               image.png 

             

             2) 實(shí)際光量子產(chǎn)量Y(II)是一種光適應(yīng)快速檢測(cè),大約需要兩秒鐘。 Y(II)是用于快速測(cè)量高溫脅迫的最敏感的葉綠素?zé)晒鈪?shù)??梢詸z測(cè)到約 35℃或更高溫度下的熱脅迫(Haldiman P,&Feller U.2004),(Dascaliuc A.,Ralea t.,Cuza P.,2007)。 在測(cè)量 Y(II)時(shí)需要使用 PAR 葉夾,因?yàn)閿?shù)值會(huì)隨光強(qiáng)而變化,PAR 葉夾會(huì)根據(jù)葉片的位置和角度測(cè)量葉片溫度和接收到 PAR。

            3) 性狀指數(shù)PI ABS ---對(duì)高溫脅迫敏感的快速暗適應(yīng)檢測(cè)(OJIP 協(xié)議)。 這是一個(gè)用于比較不同樣品高溫脅迫的標(biāo)準(zhǔn)化的參數(shù)。 可以檢測(cè) 44℃及以上的熱脅迫,但對(duì) 44℃以下的熱脅迫不敏感。

            image.png

             4) 非光化學(xué)淬滅NPQ --- 是一項(xiàng)需要大約二十到三十五分鐘和整夜暗適應(yīng)的檢測(cè)。淬滅參數(shù)檢測(cè)適用于溫度高于 35℃的中度高溫脅迫,如監(jiān)測(cè)高溫環(huán)境下橡木 - 桉樹的 NPQ 和 qP(Haldiman P,&Feller U. 2004), 菠菜的中度高溫脅迫。 (Tang Y.,Wen X.,Lu Q.,Yang Z.,Cheng Z.,&Lu C. 2007)。

             

            OS5p+作為一款高級(jí)便攜式研究型葉綠素?zé)晒鈨x,可以測(cè)量如下葉綠素?zé)晒鈪?shù):

            Fv/Fm,Y(II),ETR,PAR,葉片溫度,RLC(ETRmax,Im,Ik& a,

            Kramer lake 淬滅模型(Y(NPQ), Y(NO), Y(II), qL , & ETR

            Hendrickson lake淬滅模型(NPQ, Y(NPQ), Y(NO), Y(II) & ETR

            Baker puddle模型(qP , qN , & NPQ

            淬滅弛豫(葉黃素循環(huán)qE、狀態(tài)轉(zhuǎn)換qT、葉綠體遷移qM &光抑制 qI)

            Strasser  OJIP協(xié)議(所有參數(shù))

            Vredenburg OJIP 淬滅協(xié)議

            其中淬滅弛豫參數(shù)qE、qT、qM & qI)是非光化學(xué)淬滅NPQ的四個(gè)分量,精確計(jì)算四個(gè)分量有助于從光能利用的角度深層次研究植物的抗性機(jī)理。qE和qM可用于評(píng)估光保護(hù)性能,qI是光合作用的光抑制作用,反應(yīng)植物對(duì)環(huán)境脅迫的保護(hù)性調(diào)節(jié),qT是改變進(jìn)入光系統(tǒng)I和光系統(tǒng)II反應(yīng)中心的能量流平衡的過程,反應(yīng)植物對(duì)光能的利用能力。

            Goss和Lepetit(2015)使用光保護(hù)性成分qE、qM鑒定抗性品種。許多科學(xué)家提出了NPQ四分量的計(jì)算方法,并利用它們進(jìn)行抗性品種的篩選(Maxwell and Johnson 2000,Guadagno et al.2010Rohá?ek2010,Kasajima et al.2015Tietz et al.2017)。

            優(yōu)勢(shì)如下:

            (1) 長(zhǎng)時(shí)間淬滅測(cè)量過程中可保持“穩(wěn)定"光化光強(qiáng)輸出;

            (2) 內(nèi)置多相飽和光閃校正程序,確保高光照條件下也可以測(cè)得準(zhǔn)確的FmY(II);

            (3) 可以測(cè)量非光化學(xué)淬滅NPQ的全部組分(qE、qM、qT&qI);

            (4) 自動(dòng)設(shè)置調(diào)制光強(qiáng),降低人為操作誤差;


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