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            上海大學(xué)生命學(xué)院OS1p便攜式葉綠素?zé)晒鈨x完成安裝

            閱讀:789      發(fā)布時(shí)間:2024-1-10
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            近日,上海大學(xué)生命科學(xué)學(xué)院 OS1p便攜式葉綠素?zé)晒鈨x順利完成安裝驗(yàn)收, 該儀器可用于協(xié)助監(jiān)測高溫脅迫對作物生長的影響。研究作物高溫傷害及其生理生化基礎(chǔ),將有助于采取相應(yīng)措施減輕高溫危害,并為篩選抗高溫基因型提供有效的途徑。選育抗高溫品種并輔以配套技術(shù)措施,對抵御高溫逆境尤為重要。

            微信圖片_20240110111702.png


            Goss和Lepetit(2015)使用光保護(hù)性成分qE、qM鑒定抗性品種。許多科學(xué)家提出了NPQ四分量的計(jì)算方法,并利用它們進(jìn)行抗性品種的篩選(Maxwell and Johnson 2000,Guadagno et al.2010Rohá?ek2010,Kasajima et al.2015Tietz et al.2017)。

              1:現(xiàn)場安裝圖片

            葉綠素?zé)晒庾鳛樽魑锏墓夂咸匦詤?shù)可以直觀快速的反應(yīng)其高溫抗性,其中:

            (1) 最大光化學(xué)效率Fv/Fm對45o C以上高溫比較敏感。(Haldiman P,&Feller U.   2004)(Schreiber U. 2004),(Baker and Rosenqvist 2004)(Crafts-Brander and Law 2000)。

            微信圖片_20240110111920.png

            2) 實(shí)際光量子產(chǎn)量Y(II)是一種光適應(yīng)快速檢測,大約需要兩秒鐘。 Y(II)是用于快速測量高溫脅迫的最敏感的葉綠素?zé)晒鈪?shù)。可以檢測到約 35℃或更高溫度下的熱脅迫(Haldiman P,&Feller U.2004),(Dascaliuc A.,Ralea t.,Cuza P.,2007)。 在測量 Y(II)時(shí)需要使用 PAR 葉夾,因?yàn)閿?shù)值會隨光強(qiáng)而變化,PAR 葉夾會根據(jù)葉片的位置和角度測量葉片溫度和接收到 PAR。

            圖片1.png

            3 非光化學(xué)淬滅NPQ --- 是一項(xiàng)需要大約二十到三十五分鐘或整夜暗適應(yīng)的檢測。淬滅參數(shù)檢測適用于溫度高于 35℃的中度高溫脅迫,如監(jiān)測高溫環(huán)境下橡木 - 桉樹的 NPQ 和 qP(Haldiman P,&Feller U. 2004), 菠菜的中度高溫脅迫。 (Tang Y.,Wen X.,Lu Q.,Yang Z.,Cheng Z.,&Lu C. 2007)。

            圖片2.png

            OS1p作為一款高級便攜式研究型葉綠素?zé)晒鈨x,可以測量如下葉綠素?zé)晒鈪?shù):

            Fv/Fm,Y(II),ETR,PAR,葉片溫度,RLC(ETRmax,Im,Ik& a,

            Kramer lake 淬滅模型(Y(NPQ), Y(NO), Y(II), qL , & ETR

            Hendrickson lake淬滅模型(NPQ, Y(NPQ), Y(NO), Y(II) & ETR

            Baker puddle模型(qP , qN , & NPQ

            淬滅弛豫(葉黃素循環(huán)qE、狀態(tài)轉(zhuǎn)換qT、葉綠體遷移qM &光抑制 qI)

             

            其中淬滅弛豫參數(shù)qE、qT、qM & qI)是非光化學(xué)淬滅NPQ的四個(gè)分量,精確計(jì)算四個(gè)分量有助于從光能利用的角度深層次研究植物的抗性機(jī)理。qE和qM可用于評估光保護(hù)性能,qI是光合作用的光抑制作用,反應(yīng)植物對環(huán)境脅迫的保護(hù)性調(diào)節(jié),qT是改變進(jìn)入光系統(tǒng)I和光系統(tǒng)II反應(yīng)中心的能量流平衡的過程,反應(yīng)植物對光能的利用能力。

            Goss和Lepetit(2015)使用光保護(hù)性成分qE、qM鑒定抗性品種。許多科學(xué)家提出了NPQ四分量的計(jì)算方法,并利用它們進(jìn)行抗性品種的篩選(Maxwell and Johnson 2000,Guadagno et al.2010,Rohá?ek2010,Kasajima et al.2015,Tietz et al.2017)。


            與同類產(chǎn)品相比,優(yōu)勢如下:

            (1) 長時(shí)間淬滅測量過程中可保持“穩(wěn)定"光化光強(qiáng)輸出;

            (2) 內(nèi)置多相飽和光閃校正程序,確保高光照條件下也可以測得準(zhǔn)確的FmY(II);

            (3) 可以測量非光化學(xué)淬滅NPQ的全部組分(qE、qM、qT);

            (4) 自動設(shè)置調(diào)制光強(qiáng),降低人為操作誤差;


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