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            北京派迪威儀器有限公司

            主營產(chǎn)品: 位移臺(tái),平移臺(tái),旋轉(zhuǎn)臺(tái),長焦顯微鏡,金相顯微鏡,生物顯微鏡

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            金相顯微鏡:機(jī)械拋光的步驟分析

            2015-12-6  閱讀(1334)

              金相顯微鏡用于鑒別和分析各種金屬、合金材料和非金屬材料的組織結(jié)構(gòu),廣泛應(yīng)用于工廠或?qū)嶒?yàn)室進(jìn)行原材料檢驗(yàn);鑄件質(zhì)量鑒定或材料處理后的金相組織分析;以及對表面裂紋和噴涂等一些表面現(xiàn)象進(jìn)行研究工作,是鋼鐵、有色金屬材料、鑄件、鍍層的金相分析;地質(zhì)學(xué)的巖相分析;以及工業(yè)領(lǐng)域?qū)衔锱c陶瓷等進(jìn)行微觀研究的有效手段,是金屬學(xué)和材料學(xué)研究材料組織結(jié)構(gòu)的*儀器.
              越來越多的研究已不滿足常規(guī)的金相顯微及照相方式,將顯微成像輸入微機(jī),由微處理器對圖像作各種后期處理,是同步于當(dāng)今世界在顯微領(lǐng)域的新技術(shù).系統(tǒng)接入的高清晰度的CCD攝像系統(tǒng)(或數(shù)碼攝影系統(tǒng)),由計(jì)算機(jī)對圖像進(jìn)行處理、編輯、保存和輸出(如打印等)或進(jìn)入多媒體系統(tǒng)及電子信箱.
              金相顯微鏡系統(tǒng)配置的專業(yè)定量金相圖像分析系統(tǒng),對金相圖譜進(jìn)行進(jìn)行實(shí)時(shí)研究分析,如晶粒度測量評級;非金屬夾雜物測量評級;珠光體、鐵素體含量的測量評級;球墨鑄鐵石墨球化率測量評級;脫碳層、滲碳層測量,表面涂層厚度測量等的分析、統(tǒng)計(jì)及輸出圖文報(bào)告.
              金相顯微鏡性能特點(diǎn)
              1、無窮遠(yuǎn)光路系統(tǒng),配置無窮遠(yuǎn)平場物鏡(中心可調(diào))與φ20mm大視野目鏡
              2、粗微動(dòng)同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu),粗動(dòng)松緊可調(diào),帶限位鎖緊裝置,微動(dòng)格值: 2μm
              3、可拆卸式起偏器, 可360°偏振方向旋轉(zhuǎn),有0、90、180、270四個(gè)檔位
              4、寬電壓電源(85-265V 47-60HZ). 6V20W鹵素?zé)粽彰?亮度可調(diào)
              金相顯微鏡:機(jī)械拋光的步驟分析
              金相顯微鏡要想獲得高質(zhì)量的拋光效果,zui重要的是要具備有高質(zhì)量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等拋光工具和輔助品.而拋光程序的選擇取決于前期加工后的表面狀況,如機(jī)械加工、電火花加工,磨加工等等.機(jī)械拋光的一般過程如下:
              ( 1 )粗拋 經(jīng)銑、電火花、磨等工藝后的表面可以選擇轉(zhuǎn)速在 35 000 —40 000 rpm 的旋轉(zhuǎn)表面拋光機(jī)或超聲波研磨機(jī)進(jìn)行拋光.常用的方法有利用直徑Φ 3mm 、 WA # 400 的輪子去除白色電火花層.然后是手工油石研磨,條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑.一般的使用順序?yàn)?#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 .許多模具制造商為了節(jié)約時(shí)間而選擇從 #400 開始.
              ( 2 )金相顯微鏡半精拋 半精拋主要使用砂紙和煤油.砂紙的號數(shù)依次為: #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500 .實(shí)際上 #1500 砂紙只用適于淬硬的模具鋼( 52HRC 以上),而不適用于預(yù)硬鋼,因?yàn)檫@樣可能會(huì)導(dǎo)致預(yù)硬鋼件表面燒傷.
              ( 3 )精拋 精拋主要使用鉆石研磨膏.若用拋光布輪混合鉆石研磨粉或研磨膏進(jìn)行研磨的話,則通常的研磨順序是 9 μ m ( #1800 ) ~ 6 μ m ( #3000 ) ~3 μ m ( #8000 ). 9 μ m 的鉆石研磨膏和拋光布輪可用來去除 #1200 和 #1500 號砂紙留下的發(fā)狀磨痕.接著用粘氈和鉆石研磨膏進(jìn)行拋光,順序?yàn)?1 μ m ( #14000 ) ~ 1/2 μ m ( #60000 ) ~1/4 μ m ( #100000 ).
              精度要求在 1 μ m 以上(包括 1 μ m )的拋光工藝在模具加工車間中一個(gè)清潔的拋光室內(nèi)即可進(jìn)行.若進(jìn)行更加精密的拋光則必需一個(gè)潔凈的空間.灰塵、煙霧,頭皮屑和口水沫都有可能報(bào)廢數(shù)個(gè)小時(shí)工作后得到的高精密拋光表面.


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