您好, 歡迎來(lái)到化工儀器網(wǎng)
利用電子顯微鏡觀察界面生成物與界面處之細(xì)微孔洞
閱讀：1321 發(fā)布時(shí)間：2013-3-1
利用電子顯微鏡觀察界面生成物與界面處之細(xì)微孔洞
銲錫中銅含量對(duì)于Sn-3.0Ag-xCu覆晶銲錫接點(diǎn)之界面反應(yīng)研究
在本研究中，將探討150°C之時(shí)效處理與介于-55°C至125°C之溫度循環(huán)測(cè)試對(duì)于Sn-2.3Ag與Sn-3.0Ag-xCu覆晶銲錫接點(diǎn)之界面反應(yīng)之影響。
在Sn-2.3Ag或Sn-3.0Ag-xCu銲錫凸塊與晶片間之金屬凸塊結(jié)構(gòu)為Ni/Al/Cu/SiO2，而PCB上之銲錫凸塊之結(jié)構(gòu)為Au/electroless Ni/Cu。
此外，銲錫中之銅含量在界面反應(yīng)中所扮演之角色也是本研究的重點(diǎn)之一。
金線與鋁墊間之固態(tài)反應(yīng)研究
在積體線路封裝中，晶片與導(dǎo)線架之間的連接目前仍然主要是利用打線接合技術(shù)。在本研究中，將探討150°C時(shí)效處理對(duì)于Au-Cu wire/Al-Cu pad
接點(diǎn)處之界面反應(yīng)之影響。試片經(jīng)過(guò)研磨、拋光后，再利用PECS （precision etching and coating system）進(jìn)行離子蝕刻。
試片經(jīng)過(guò)離子蝕刻后，將易于利用場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡（FE-SEM）觀察界面生成物與界面處之細(xì)微孔洞。
實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn)界面生成物會(huì)隨著時(shí)效處理時(shí)間之增加而產(chǎn)生相變化，因此在本研究中將藉由顯微結(jié)構(gòu)的觀察與定量分析之結(jié)果，探討界面相變化之情形。
參考資料：
http://www.xianweijing.org/