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            復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司

            飛納電鏡展會(huì)邀請(qǐng) | 第十三屆華北五省市化學(xué)學(xué)術(shù)研討會(huì)

            時(shí)間:2019-8-9 閱讀:2119
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            第十三屆華北五省市化學(xué)學(xué)術(shù)研討會(huì)(HBHX 2019)將于 2019 年 8 月 10 日 - 13 日在天津召開。

            時(shí)間:2019 年 8 月 10 日 - 13 日

            地址:天津匯高花園酒店

             

            會(huì)議主題

            1. 無機(jī)化學(xué)
            2. 有機(jī)化學(xué)
            3. 分析化學(xué)
            4. 物理化學(xué)
            5. 高分子物理與化學(xué)
            6. 理論計(jì)算化學(xué)
            7. 能源材料化學(xué)
            8. 化學(xué)教育
            9. 化學(xué)相關(guān)交叉學(xué)科

             

            飛納電鏡展位:3 號(hào)展位

            荷蘭飛納推出肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源,集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體的臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡能譜一體機(jī) Phenom LE。

             

            放大倍數(shù) 50 萬倍,分辨率優(yōu)于 2.5 nm@15kV。

             

            高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源,使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像。Phenom LE 低電壓成像優(yōu)勢(shì)明顯,可減輕電子束對(duì)樣品的損傷和穿透,zui大程度還原樣品真實(shí)形貌。

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