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涂層測(cè)厚技術(shù)---輪廓儀法和光切法
閱讀：1814 發(fā)布時(shí)間：2019-8-26
1)輪廓儀法
輪廓儀法又稱角出針法,它是采用試樣涂前屏蔽或涂后溶解的方式, 使基體某一部分除去涂層,在基體和涂層之間形成一個(gè)臺(tái)階。通過輪廓儀的探針運(yùn)動(dòng)來測(cè)量臺(tái)階的高度而得到涂層的厚度值。 該法可以測(cè)量較寬范圍的涂層厚度。 可測(cè)范圍從0.01 ~ 1000µm的各種涂層, 準(zhǔn)確度為±10%以內(nèi) 。
輪廓測(cè)厚儀有電子記錄針式儀和表面輪廓記錄儀兩種 。
2)光切法
光切法又稱干涉顯微鏡法。其試樣的制作與輪廓儀測(cè)厚法相同,即造成一個(gè)基體和涂層的臺(tái)階, 利用多光束干涉顯微鏡對(duì)該臺(tái)階高度測(cè)量, 從而獲得涂層的厚度值。 該方法可測(cè)量2µm以下, 具有較高反射率的各種涂層厚度。
光切法測(cè)量涂層的厚度, 是通過干涉測(cè)量儀, 一個(gè)貼于試樣作平面基準(zhǔn)板的透鏡, 當(dāng)一束單色光在上述試樣上和透鏡之間來回反射時(shí), 可觀察到在光學(xué)平面和試樣表面之間產(chǎn)生的干渉帶圖象,若將基準(zhǔn)板相對(duì)子被測(cè)涂層表面稍微傾斜,則干渉帶的圖象以平行的光亮帶和暗帶交替出現(xiàn), 當(dāng)干渉帶在基體與涂層的臺(tái)階處時(shí), 干渉帶的圖象會(huì)產(chǎn)生相對(duì)位移, 其位移量是試樣表面與光學(xué)平面位差的量, 所以, 通過帶測(cè)微目鏡和干渉顯微鏡觀察和測(cè)量干渉帶位移距高, 即可測(cè)出涂層的厚度值,,干渉顯微鏡的使用方法, 可參照儀器的使用說明書要求進(jìn)行。