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當(dāng)前位置:> 供求商機(jī)> 等離子處理機(jī)器 去膠刻蝕 活化設(shè)備
等離子清洗機(jī)對(duì)產(chǎn)品表面進(jìn)行處理帶來(lái)表面清潔、改性的效果,提高產(chǎn)品的附著力、粘結(jié)力、浸潤(rùn)性等特性。
1、等離子清洗機(jī)提高粘接能力,等離子處理設(shè)備可在材料表面增添化學(xué)功能鍵實(shí)現(xiàn)表面活化,提高粘接性能
2、等離子清洗機(jī)提高浸潤(rùn)性,等離子體在材料表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),提高表面能
3、等離子清洗機(jī)提高材料表面潔凈度,提高粘接、涂漆、印刷、著色等工藝前的表面附著力
4、使用等離子清洗機(jī)針對(duì)薄膜材料活化處理,可以解決覆膜開(kāi)膠問(wèn)題
5、等離子清洗機(jī)提高表面阻隔力、提高表面防腐抗氧化能力,改變光學(xué)透反射性能
等離子清洗機(jī)在去除光刻膠方面的具體使用:
等離子清洗機(jī)的應(yīng)用包括預(yù)處理、灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸點(diǎn)、消除靜電、介電質(zhì)刻蝕、有機(jī)污染去除、晶圓減壓等。使用等離子清洗機(jī)不僅能去除光刻膠等有機(jī)物,還能活化加粗晶圓表面,提高晶圓表面的浸潤(rùn)性,使晶圓表面更加具有粘接力。
晶圓光刻蝕膠等離子清洗機(jī)與傳統(tǒng)設(shè)備相比較,有很多優(yōu)勢(shì),設(shè)備成本不高,加上清洗過(guò)程氣固相干式反應(yīng),不消耗水資源,不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑,這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝。等離子清洗機(jī)刻蝕設(shè)備解決了濕法去除晶圓表面光刻膠反應(yīng)不準(zhǔn)確、清洗不干凈、易引入雜質(zhì)等缺點(diǎn)。不需要有機(jī)溶劑,對(duì)環(huán)境也沒(méi)有污染,屬于低成本的綠色清洗方式
作為干法清洗等離子清洗機(jī)可控性強(qiáng),一致性好,不僅去除光刻膠有機(jī)物,而且還活化和粗化晶圓表面,提高晶圓表面浸潤(rùn)性
晶圓清潔-等離子清洗機(jī)用于在晶圓凸點(diǎn)工藝前去除污染,還可以去除有機(jī)污染、去除氟和其它鹵素污染、去除金屬和金屬氧化
本公司不僅提供標(biāo)準(zhǔn)的等離子清洗機(jī),且可根據(jù)用戶的需求進(jìn)行不同的定制設(shè)計(jì)從而滿足客戶特定的生產(chǎn)環(huán)境和處理工藝需求。
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