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            等離子去膠機器 灰化蝕刻設(shè)備
            • 等離子去膠機器  灰化蝕刻設(shè)備

            貨物所在地:山東煙臺市

            地: 招遠市高新開發(fā)區(qū)招金路518號

            更新時間:2024-09-11 10:40:18

            瀏覽次數(shù):185

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            等離子去膠機器 灰化蝕刻設(shè)備對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基光刻膠去除。適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進行等離子體去膠、活化、刻蝕、清洗、鍍膜。

            等離子去膠清洗機器對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基光刻膠去除。適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進行等離子體去膠、活化、刻蝕、清洗、鍍膜。

            在一些生產(chǎn)工序中,需要在表面涂膠,在這過程中可能會出現(xiàn)溢膠、殘余等等狀況,那么在進入下一道工序前,需要對表面進行處理,去除殘膠,等離子去膠機就是用在這個方面的。

            半導(dǎo)體光刻膠去除工藝一般分成兩種,濕法去膠和干法去膠。相對于濕法去膠,等離子清洗機的干法去膠是利用高能等離子體處理光刻膠表面,去膠透徹且速度快,不需引入化學(xué)物質(zhì),減少了對晶圓材料的腐蝕和損傷,是現(xiàn)有去膠工藝中好的方式。

            等離子清洗去膠機器采用高密度、無損傷等離子源設(shè)計,同時配備成熟的遠程ICP技術(shù),達到高水平的去膠速率,并實現(xiàn)去膠損傷抑制;采用獨立腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計,實現(xiàn)均勻的流場分布,去膠均勻性表現(xiàn)優(yōu)異。

            PLASMA等離子清洗去膠機是適用于硅基材料的晶圓表面去膠的清洗設(shè)備,也可用于光刻膠去除,碳化硅刻蝕,硬掩膜層干法清除,刻蝕后表面清潔,氧化硅或氮化硅刻蝕,DESCUM,介質(zhì)與介質(zhì)間光阻去除等應(yīng)用領(lǐng)域

            等離子清洗機活化改性 去膠刻蝕、避免靜電損傷

            等離子清洗去膠機是剝離式清洗,優(yōu)點在于清洗后無廢液,特點是不分處理對象的基材類型均可處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物及粉體或時顆粒狀材料的等離子表面改性處理,包括:等離子清洗、活化、刻蝕、沉積、聚合、接枝、污染物去除、表面化學(xué)改性、聚合物植、表面涂覆等。等離子清洗機為所處理的材料表面帶來潔凈、提高濕潤性轉(zhuǎn)變,表面性質(zhì)改變,提高結(jié)合力等處理效果。



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