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            上海添時科學(xué)儀器有限公司

            • 2022

              11-01

              研磨拋光機對普通玻璃的研磨和拋光

              實驗樣品:表面較平整的普通玻璃實驗?zāi)康模簩⑵胀úAП砻嫜心テ秸伖?。實驗設(shè)備:UNIPOL-802自動研磨拋光機、MTI-3040加熱平臺、SKZD-2滴料器、4XC-PC倒置金相顯微鏡,各實驗設(shè)備...
            • 2022

              10-24

              真空高溫管式爐操作規(guī)程

              一、準(zhǔn)備工作1、設(shè)計升降溫曲線,升溫速率不得高于10℃/分鐘,降溫速率應(yīng)低于15℃/分鐘。2、清掃環(huán)境。3、每周開始使用管式爐時,檢查機械泵油線處于標(biāo)線以上,拆除兩端蓋,用吸塵器清潔剛玉爐管。4、將樣...
            • 2022

              10-24

              管式電爐的工作原理和維護措施

              管式電爐具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等特點。廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、...
            • 2022

              10-21

              真空熱壓爐由哪些組成?

              真空熱壓爐是在真空(或其它氣氛)條件下將材料熱壓成型的成套設(shè)備,主要采用電阻式加熱,由油缸驅(qū)動的壓頭上下加壓。在高溫下,物料生坯固體顆粒的相互鍵聯(lián),晶粒長大,空隙(氣孔)和晶界漸趨減少,通過物質(zhì)的傳遞...
            • 2022

              10-17

              氫氣爐是由哪些部件組成的?

              氫氣爐是由哪些部件組成的?氫氣爐為氣體保護多用途爐,可滿足在還原氣體或成型氣體氣氛中對藍寶石退火,還原、燒結(jié)和表面處理等工藝需要,廣泛應(yīng)用于航空航天、金屬材料、粉末冶金、陶瓷產(chǎn)品、半導(dǎo)體器件、厚膜電路...
            • 2022

              10-17

              箱式爐發(fā)熱元件的選用有哪些基本要求

              箱式爐在國際市場上的發(fā)展路程已經(jīng)有很多年了,從超初的推廣,得到各行各業(yè)的廣泛應(yīng)用,從而被人們所認(rèn)可。由于它本身的種種優(yōu)勢,可以說前景一片大好。下面我們就來詳細(xì)了解一下吧!箱式爐又名馬弗爐,操作簡單、維...
            • 2022

              10-14

              多層金屬復(fù)合材料研究現(xiàn)狀

              隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展和進步,對材料的性能要求也越來越高,傳統(tǒng)材料由于結(jié)構(gòu)單一,綜合性能不夠突出,難以滿足對多性能耦合要求的服役環(huán)境。但是由多種不同性能的材料通過物理或者化學(xué)方法結(jié)合制備而成的復(fù)合材料,既...
            • 2022

              10-12

              一文看懂氣氛爐硬質(zhì)合金工藝及應(yīng)用

              一文看懂氣氛爐硬質(zhì)合金工藝及應(yīng)用硬質(zhì)合金是以一種或幾種難熔碳化物(碳化鎢、碳化鈦等)的粉末為主要成分,加入作為粘接劑的金屬粉末(鈷、鎳等),經(jīng)粉末冶金法而制得的合金。由于其*的性能,如高強度、硬度以及...
            • 2022

              10-10

              了解電化學(xué)工作站電極配套裝置

              電化學(xué)工作站是一種控制工作電極和參比電極之間電位差的電子儀器。其中,工作電極和參比電極都是電化學(xué)電解池里的組成部分。電化學(xué)工作站通過向輔助電極或?qū)﹄姌O中注入電流來控制工作電極和參比電極兩者間的電位差。...
            • 2022

              10-10

              硅鉬棒的氣氛爐溫度使用范圍

              概述二硅化鉬電熱組件是一種以硅化鉬為基礎(chǔ)的電阻發(fā)熱組件,其在氧化氣氛下加熱到高溫,表面生成一層致密的石英玻璃膜,保護其不再氧化。因此,其具有*的高溫抗氧化性,在氧化氣氛下,其zui高溫度可達1800℃...
            • 2022

              10-08

              真空熱壓爐的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)大概可以分為以下六點

              真空熱壓爐是一種以石墨為發(fā)熱元件的立式真空電阻爐。它具有框架式雙柱支撐。液壓缸在壓力源下升降,可用于金屬化合物、陶瓷、無機化合物、納米材料等,在真空或保護氣氛中加熱和沖壓產(chǎn)品。廣泛用于高溫、高真空條件...
            • 2022

              09-28

              真空氣氛爐在結(jié)構(gòu)原理及功能上有什么特別的優(yōu)勢?

              真空氣氛爐可應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空或氣氛條件下的熱處理工藝。也用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門、工礦企業(yè)電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、釬焊等工藝。主要功能和特點:1、加熱...
            • 2022

              09-26

              磁控濺射鍍膜質(zhì)量影響--工藝參數(shù)

              這篇文章介紹一部分磁控濺射鍍膜時工藝參數(shù)對最終成膜質(zhì)量的影響。首先列舉一下工藝參數(shù)的范圍:濺射壓強、濺射功率、靶基距、襯底類型、襯底溫度、背景真空度、殘余氣體的處理以及退火處理等。由于我們選擇靶材,襯...
            • 2022

              09-23

              熱處理工藝--正火

              正火的名詞解釋正火,又稱?;菍⒐ぜ訜嶂?27到912攝氏度之間以上40~60min,保溫一段時間后,從爐中取出在空氣中或噴水、噴霧或吹風(fēng)冷卻的金屬熱處理工藝。其目的是在于使晶粒細(xì)化和碳化物分布均...
            • 2022

              09-21

              熱處理:回火工藝

              回火是指將經(jīng)過淬火的工件重新加熱到低于下臨界溫度Ac1(加熱時珠光體向奧氏體轉(zhuǎn)變的開始溫度)的適當(dāng)溫度,保溫一段時間后在空氣或水、油等介質(zhì)中冷卻(或?qū)⒋慊鸷蟮暮辖鸸ぜ訜岬竭m當(dāng)溫度,保溫若干時間,然后...
            • 2022

              09-20

              熱處理:淬火的過程和方法步驟

              熱處理是改變某些金屬機械性能的常用方法。能夠改變金屬的硬度、韌性和強度,同時保持其化學(xué)成分完整和幾乎不變,這是一種根據(jù)環(huán)境和工作需要定制金屬的好方法。有許多不同的方法來熱處理金屬,其中最,流行的方法是...
            • 2022

              09-19

              熱處理:退火工藝目的和方法

              退火是一種金屬熱處理工藝,指的是將金屬緩慢加熱到一定溫度,保持足夠時間,然后以適宜速度冷卻。目的是降低硬度,改善切削加工性;消除殘余應(yīng)力,穩(wěn)定尺寸,減少變形與裂紋傾向;細(xì)化晶粒,調(diào)整組織,消除組織缺陷...
            • 2022

              09-16

              熱處理的方法有那些?

              將金屬在固態(tài)范圍內(nèi)通過一定方式的加熱、保溫和冷卻處理程序,使金屬的性能和顯微組織獲得改善或改變,這種工藝方法稱為熱處理。根據(jù)熱處理的目的不同,有不同的熱處理方法,主要可分為下述幾種:(1)退火(代號T...
            • 2022

              09-15

              馬弗爐煅燒使用原理

              隨著每年的標(biāo)準(zhǔn)不斷變化,使用馬弗爐設(shè)備的越來越多,在這里給大家講解一下馬弗爐煅燒原理以及注意事項。煅燒:在一定溫度下,于空氣或惰性氣流中進行熱處理,稱為煅燒或焙燒煅燒是天然化合物或人造化合物的熱離解或...
            • 2022

              09-14

              磁控濺射的工作原理

              磁控濺射磁控濺射是物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)...

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