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            等離子蝕刻機(jī)的結(jié)構(gòu)

            閱讀:2288      發(fā)布時(shí)間:2021-6-30
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            等離子刻蝕機(jī),又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕,是干法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時(shí),會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
            結(jié)構(gòu)
            ICP 設(shè)備主要包括預(yù)真空室、刻蝕腔、供氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)四部分。
            (1)預(yù)真空室
            預(yù)真空室的作用是確保刻蝕腔內(nèi)維持在設(shè)定的真空度,不受外界環(huán)境(如:粉塵、水汽)的影響,將危險(xiǎn)性氣體與潔凈廠房隔離開來。它由蓋板、機(jī)械手、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、隔離門等組成。
            (2)刻蝕腔體
            刻蝕腔體是ICP 刻蝕設(shè)備的核心結(jié)構(gòu),它對刻蝕速率、刻蝕的垂直度以及粗糙度都有直接的影響??涛g腔的主要組成有:上電極、ICP 射頻單元、RF 射頻單元、下電極系統(tǒng)、控溫系統(tǒng)等組成。
            (3)供氣系統(tǒng)
            供氣系統(tǒng)是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕氣體,通過壓力控制器(PC)和質(zhì)量流量控制器(MFC)精準(zhǔn)的控制氣體的流速和流量。氣體供應(yīng)系統(tǒng)由氣源瓶、氣體輸送管道、控制系統(tǒng)、混合單元等組成。
            (4)真空系統(tǒng)
            真空系統(tǒng)有兩套,分別用于預(yù)真空室和刻蝕腔體。預(yù)真空室由機(jī)械泵單獨(dú)抽真空,只有在預(yù)真空室真空度達(dá)到設(shè)定值時(shí),才能打開隔離門,進(jìn)行傳送片??涛g腔體的真空由機(jī)械泵和分子泵共同提供,刻蝕腔體反應(yīng)生成的氣體也由真空系統(tǒng)排空。

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