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CIF等離子清洗機外觀美學設計，結構緊湊，漂亮大氣，優(yōu)化的腔體結構及合理的結構設計，使得處理樣品量更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡便，性價比更高，使用成本更低，實用性更強，更容易維護。在材料學，光學，電子學，醫(yī)藥學，環(huán)境學、生物學等科研領域，主要用于材料表面進行清洗、活化、改性等目的。

產(chǎn)品特點：

u PLC工控機控制整個去膠過程，全自動進行。

u 7寸彩色觸摸屏互動操作界面，圖形化用戶操作界面顯示，自動監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，0~99個配方程序，可存儲、輸出、追溯工藝數(shù)據(jù)，機器運行、停止提示。手動、自動兩種工作模式。

u 采用石英真空倉，全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質，耐腐蝕無污染。

u 等離子清洗機自動匹配器，功率無極可調。

u 采用美國德威爾（Dwyer）氣體浮子流量計，雙路氣體控制氣體流量，可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體，氣體分配均勻，經(jīng)濟實用。

u 符合人體功能學的60度傾角操作界面設計，操作方便，界面友好。

u 上控制下艙體上下結構設計，結構更合理，占用實驗室空間小。

u 內凹式前面板設計，有效保護流量計和艙門運輸過程中不易損壞。

u 處理高效均勻，效率高，工藝重復性好。

u 樣品處理溫度低，無熱損傷和熱氧化。

u 安全保護，倉門打開，自動關閉電源。  

技術參數(shù)