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文獻(xiàn)解讀丨肖特基異質(zhì)結(jié)納米片陣列實(shí)現(xiàn)工業(yè)水分解電解槽的高電流密度析氧
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研究背景
電催化分解水作為一種環(huán)境友好的高純度氫氣制備方法,在緩解化石燃料逐漸枯竭導(dǎo)致的日益嚴(yán)重的能源危機(jī)和過多碳排放導(dǎo)致的日益嚴(yán)重的環(huán)境污染之間的矛盾中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。分解水的陽極半反應(yīng),即析氧反應(yīng)(OER),由于動力學(xué)過程緩慢,被廣泛認(rèn)為是限速步驟。
因此,各種非貴金屬材料(Ni-Fe基氧化物/氫氧化物等)已被開發(fā)為先進(jìn)的OER催化劑,可與貴金屬(Ru, Ir等)基催化劑相媲美。然而,眾多催化劑體系的電流密度往往低于100 mA.cm-2的水平,不能滿足工業(yè)需求。此外,由于規(guī)模化和宏觀制備方法的限制,這些先進(jìn)的催化劑難以規(guī)?;酱竺娣e電極,無法在實(shí)際的工業(yè)電解槽上評價其性能。因此,能夠在工業(yè)條件下(大電流、高活性和規(guī)?;a(chǎn))有效應(yīng)用的多功能催化劑系統(tǒng),是推動氫能從基礎(chǔ)到實(shí)際應(yīng)用的關(guān)鍵。
方法與結(jié)論
本論文提出了一種由分散的NiFe氫氧化物納米顆粒和超薄NiS納米片組成的肖特基異質(zhì)結(jié)納米片陣列(NiFeLDH/NiS),以協(xié)同調(diào)節(jié)質(zhì)量傳輸和電子結(jié)構(gòu),從而在大電流下觸發(fā)析氧反應(yīng)(OER)活性。
SEM研究表明,相比于其表面較為光滑的商用泡沫鎳(圖1b),圖1c所示均勻的納米片陣列垂直分布于鎳泡沫的開放多孔骨架結(jié)構(gòu)上。此外,NiFe LDH/NiS仍然保持片狀形貌,在NiS納米片表面耦合了粗糙的NiFe LDH層(圖1d)。TEM研究中,橫斷面FESEM圖像和元素映射(圖1h和圖1d的插圖)顯示,Ni泡沫表面形成了≈1.5 µm厚的NiS層,其上形成了≈0.5 µm厚的NiFe LDH層。圖1e中的透射電子顯微鏡(TEM)圖像進(jìn)一步顯示了NiS層與高度分散的NiFe LDH納米顆粒耦合形成的高度波紋片狀結(jié)構(gòu)。在圖1f中垂直分布的薄片表明這些納米薄片的平均厚度約為5 nm。圖1g-h的HRTEM圖進(jìn)一步揭示了NiS和NiFe LDH之間存在強(qiáng)耦合異質(zhì)結(jié)構(gòu)和可見的異質(zhì)界面,以及其對應(yīng)的元素分布揭示了同樣的結(jié)果。
圖1.制造和結(jié)構(gòu)表征。A)NiS和NiFe LDH/NiS電極合成示意圖。b-d)清潔的泡沫鎳、NiS和NiFe LDH/NiS電極的掃描電鏡圖像,(b)和(d)中的插圖顯示(b)中區(qū)域的放大圖像和鎳絲上NiFe LDH/NiS橫截面的掃描電鏡圖像。e)NiFe LDH/NiS電極的TEM圖像、f,g)HRTEM圖像和相應(yīng)的快速傅立葉變換(FFT)圖形(插圖g)。h)NiFe LDH/NiS在鎳絲上橫截面的元素圖譜。
NiFe LDH/NiS的拉曼光譜(圖2a)揭示了異質(zhì)結(jié)構(gòu)中NiFe LDH和NiS的共存,并且異質(zhì)結(jié)構(gòu)通過Ni-S-Fe(Ni)橋接單元進(jìn)行了強(qiáng)烈的相互作用。利用島津的X射線光電子能譜(XPS)對制備的材料進(jìn)行進(jìn)一步研究,以了解NiFe LDH/NiS異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電子相互作用。寬掃描XPS光譜顯示,Ni、Fe、S和O元素在NiFe LDH/NiS電極表面共存(圖2b)。精細(xì)譜圖(圖2c-2f)表征分析表明,在NiFe LDH/NiS異質(zhì)結(jié)構(gòu)中,伴隨著NiS向NiFe LDH注入電子,Ni-S(O)-Ni(Fe)單元架起了強(qiáng)耦合界面。這種界面電荷的重新分配在表面化學(xué)吸附性能和催化動力學(xué)中起著關(guān)鍵作用。
圖2 成分特征。a)拉曼光譜,b) XPS總譜,c) c) Ni 2p, d) Fe 2p, e) S 2p, f) O 1s的高分辨率XPS光譜
本論文對所制備催化劑的光催化活性進(jìn)行評估,如圖3所示。如圖3a所示,NiFe LDH/NiS相比于其他電催化劑表現(xiàn)出較小的極化電勢,并且表現(xiàn)出最低的Tafel斜率(60.1 mV.dec-1),表明NiFe LDH/NiS具有較快的動力學(xué)過程(圖3b)。圖3c直觀的顯示出不同電極材料在不同電流密度下的過電勢,其中NiFe LDH/NiS仍然具有較小的過電勢,與其他最新的Ni-Fe基電催化劑相比,仍然具有優(yōu)異的電催化活性(圖2d)。研究了不同電位下的電化學(xué)阻抗譜(EIS),進(jìn)一步說明了OER的電荷轉(zhuǎn)移動力學(xué)(圖3e,f)。在恒定電流密度為400 mA.cm-2的情況下,連續(xù)測試超過100小時,觀察到NiFe LDH/NiS應(yīng)用電位的衰減可以忽略,這表明其具有非凡的耐久性(圖3g)。催化劑在工業(yè)30% KOH溶液中,即使在45℃、65℃和85℃的高溫條件下(400 mA cm-2超過40 h),也能很好地工作(圖3h)。
圖3電化學(xué)測量:a)極化曲線,b)不同電極對應(yīng)的Tafel圖,c)不同電極的活性比較,d)最新的Ni-Fe基電催化劑,e)不同電壓下Nyquist圖和f) Bode相位圖,g) NiFe LDH/NiS在不同電解質(zhì)中400 mA.cm-2恒流密度下的計(jì)時電(CP)曲線,h) NiFe LDH/NiS在工業(yè)30% KOH電解質(zhì)下,在不同溫度下的CP曲線。
隨后,對電化學(xué)測試后材料進(jìn)行了研究。FESEM、TEM圖像以及拉曼光譜(圖4a、圖S15、圖S16)證實(shí)了在OER過程中,NiFe LDH/NiS的晶體結(jié)構(gòu)堅(jiān)固,片狀形態(tài)和分層結(jié)構(gòu)得到了很好的保留。HRTEM圖像顯示,α-NiOOH相(104)面對應(yīng)的面間距為0.22 nm(圖4b),表明α-Ni(Fe)(OH)2轉(zhuǎn)化為α-Ni(Fe)OOH。
此外,島津的X射線光電子能譜(XPS)表征顯示,隨著M-O與M-OH面積比的增加,只有Ni 2p和O 1s峰發(fā)生了輕微變化(圖4c,f),說明在形態(tài)和晶體結(jié)構(gòu)保持良好的情況下,NiFe LDH的Ni (Fe)位點(diǎn)處于活化狀態(tài)(圖4d,e)。一般來說,金屬硫化物在OER過程中傾向于結(jié)構(gòu)演化為氫氧化物。有趣的是,在我們的催化劑中,通過HRTEM圖像和XPS結(jié)果仍然可以觀察到NiS相和NiFe LDH/NiS之間的非均相界面,這可能是由于與報道的先例相似的不完全結(jié)構(gòu)演化造成的。良好的OER活性、增強(qiáng)的電導(dǎo)率和良好的耐久性表明,Schottky異質(zhì)結(jié)的構(gòu)建在調(diào)節(jié)NiFe LDH/NiS陣列的電化學(xué)環(huán)境中起著至關(guān)重要的作用。
圖4 OER試驗(yàn)后NiFe LDH/NiS的表征。a) TEM和b) HRTEM圖像。c) Ni 2p,d) Fe 2p, e) S 2p和f) O 1s的高分辨率XPS光譜
綜上所述,作者構(gòu)建了強(qiáng)耦合NiFe LDH/NiS肖特基異質(zhì)結(jié)納米片陣列,并協(xié)同優(yōu)化了局部電荷和質(zhì)量傳輸使其具有高電流密度的析氧過程。所制備的NiFe LDH/NiS電極對OER表現(xiàn)出良好的催化活性,在100和1000 mA.cm-2時的過電位分別僅為277 mV和325 mV。良好的催化性能歸功于其良好的結(jié)構(gòu)特征,包括多孔的層次化結(jié)構(gòu)、納米片層內(nèi)有序無序的電疇、高度分散的NiFe LDH活性相以及NiFe LDH與NiS基體之間強(qiáng)耦合的肖特基界面。NiFe LDH/NiS電極具有成本低、易擴(kuò)展、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn),在大規(guī)模工業(yè)水電解中具有很好的實(shí)用性。在工業(yè)裂水電解槽中,在恒定催化電流8000 mA下,獲得了規(guī)?;拇竺娣eNiFe LDH/NiS電極,并在80h內(nèi)實(shí)現(xiàn)。此外,它在良好的小分子氧化方面的多功能性進(jìn)一步凸顯了它在未來生物質(zhì)耦合制氫系統(tǒng)中的潛力。