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            蘇州展文電子科技有限公司成都分公司>>技術(shù)文章>>HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV介紹

            HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV介紹

            閱讀:945        發(fā)布時間:2021-12-29

             

            HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV概述

            專為VUV 測量設計,整個系統(tǒng)處于真空狀態(tài),無氧氣吸收。具備高度準確性;獨YI無二的超快測量速度;快速樣品室抽真空能力,方便快速更換樣品;氮氣消耗量少。

            重點應用領域

            • 超薄膜

            • 157nm 光刻新材料

            • 有機材料、高分子材料

            • 高k 材料:HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz

            • 抗反射涂層

            • 半導體和介電材料電子躍遷

            • MgF2、CaF2、LaF3

            HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV特點

            ★ 50KHz 高頻PEM 相位調(diào)制技術(shù)

            ★ 45 秒內(nèi)完成充氮氣

            ★ 2 分鐘內(nèi)完成樣品室抽真空

            ★ 8 分鐘內(nèi)完成光譜全譜范圍內(nèi)測量

            ★ 兩種工作模式:氮氣清洗結(jié)合抽

            ★ 真空、連續(xù)氮氣清洗

            ★ 光譜范圍:147nm~850nm;147nm~2100nm

             

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