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等離子體清洗好處，等離子體清洗與其它清洗方式對比表
等離子體清洗好處,對PTFE進(jìn)行等離子活化處理,蝕刻工藝,為彈性密封件和PTFE密封件研發(fā)了很好的等離子工藝,并得到了應(yīng)用,等離子體清洗與其它清洗方式對比表.
等離子體清洗好處：
?。?、其除去了有機層（含碳污染物），其會受到例如， 氧氣 和空氣的化 腐蝕，通過超壓吹掃，將其從表面去除。
通過等離子體中的高能量粒子，臟污會轉(zhuǎn)化為 穩(wěn)定的小型分子 ，并借此將其移除，處理過程中臟污的厚度只允許達(dá)到 幾百納米 ，因為等離子的清除速度僅能夠達(dá)到每次幾 nm。
脂肪含有諸如鋰化合物之類的成分。僅能夠除去其 有機成分 。這一點同樣適用于指紋。故此，建議戴手套。
?。?、還原氧化物
金屬氧化物會和工藝氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。作為工藝氣體，使用了氫氣和氬氣或氮氣的混合物。等離子體射流的熱效應(yīng)可能會導(dǎo)致進(jìn)一步的氧化。故此建議在惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行處理。
常壓等離子激活處理主要用于哪些方面？
這種技術(shù)非常適用于以下工藝過程：
?。薄⒃谡澈现皩λ芰线M(jìn)行局部的等離子活化處理
?。?、在粘合、植絨、印刷（例如，汽車行業(yè)中的橡膠型材）之前，對彈性體進(jìn)行等離子活化處理
?。?、在粘合或者粘接之前，對金屬和陶瓷表面進(jìn)行局部的等離子活化處理
?。础O為適合在直接于移印機中移印之前，對塑料零部件進(jìn)行處理。
用常壓等離子體進(jìn)行活化處理能夠為我們帶來哪些主要優(yōu)勢？
技術(shù)適用于在線工藝，例如，在對連續(xù)型橡膠型材、軟管進(jìn)行印刷、膠粘，植絨或者涂層之前進(jìn)行等離子活化。
等離子體清洗與其它清洗方式對比表：
應(yīng)用用途和特性 | 低壓等離子體的優(yōu)點 | 低壓等離子體的缺點 | 常壓等離子體的優(yōu)點 | 常壓等離子體的缺點 |
普通的等離子體生成 | 在等離子腔體室中均勻分布等離子體，腔室體積可變 | 復(fù)雜的真空技術(shù)，在線等離子處理應(yīng)用受到一定的限制 | 可以直接在輸送帶上進(jìn)行等離子處理，適用于在線處理，無需任何真空技術(shù) | 由于等離子體激發(fā)原理的原因，等離子處理痕跡有限，處理較大的對象的時候，必須使用多個噴嘴 |
對金屬進(jìn)行處理 | 可對易氧化的對象進(jìn)行等離子清洗 | 進(jìn)行微波激發(fā)的時候，對象上可能會相應(yīng)產(chǎn)生能量，這會造成對象過熱 | 對鋁進(jìn)行等離子處理的時候，可以生成很薄的氧化層 | 對易氧化的對象進(jìn)行等離子清洗，受到一定的限制 |
對聚合物彈性體進(jìn)行處理 | 無法對PTFE進(jìn)行等離子活化處理，蝕刻工藝，為彈性密封件和PTFE密封件研發(fā)了很好的等離子工藝，并得到了應(yīng)用 | 某些材料需要用到較大型的泵，以便達(dá)到必須的工藝壓力 | 無法對連續(xù)型對象進(jìn)行預(yù)處理，工藝時間很短 | 等離子射流的溫度為約 200 - 300 °C。必須對表面的工藝溫度進(jìn)行很好的調(diào)節(jié)，以防止著火（很薄的材料） |
3D對象 | 對等離子體腔室中的所有對象進(jìn)行均勻處理。即使是中空腔室也可以從內(nèi)部進(jìn)行處理（例如，點火線圈、水箱等） | 未知 | 可進(jìn)行局部表面處理（例如，粘結(jié)槽口） | 需要使用復(fù)雜的多關(guān)節(jié)型機器人技術(shù)。常壓等離子體的間隙滲透性受到一定的限制 |
散裝部件 | 通過轉(zhuǎn)鼓法可以對散裝部件進(jìn)行均勻的等離子處理。零部件的件數(shù)和體積可以有所不同 | 其僅能夠使用轉(zhuǎn)鼓的 1/3 體積（建議） | 可以直接在輸送帶上處理對象 | 對象必須極為的定位在輸送帶上 |
電子，半導(dǎo)體技術(shù) | 借助低壓等離子體對電子元件、電路板和半導(dǎo)體部件進(jìn)行等離子處理是先進(jìn)的技術(shù)。 | 未知 | 金屬或者 ITO 觸點可在粘接處理之前進(jìn)行等離子預(yù)處理（例如，LCD、TFT 和芯片的生產(chǎn)） | |
涂層工藝 | 生成均勻的涂層。研發(fā)了很多 PECVD 和 PVD 工藝，并得到了應(yīng)用 | 可能會造成等離子體腔室的污染 | 具有很多的工業(yè)用途 | 尚不具有任何的工業(yè)用途 |